[实用新型]镭射机压缩空气过滤系统有效
申请号: | 201520682400.5 | 申请日: | 2015-09-06 |
公开(公告)号: | CN205007748U | 公开(公告)日: | 2016-02-03 |
发明(设计)人: | 曾新荣;盛汉斌;刘建德 | 申请(专利权)人: | 昆山鼎鑫电子有限公司 |
主分类号: | B01D46/00 | 分类号: | B01D46/00;B01D53/04;B01D53/26 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 孙晓宇 |
地址: | 215316 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 镭射 压缩空气 过滤 系统 | ||
技术领域
本实用新型涉及压缩空气净化领域,特别涉及一种镭射机压缩空气过滤系统。
背景技术
目前,镭射机通常采用压缩空气对光路镜片进行清洁,但是当压缩空气内含有干扰气体时,会造成镭射光能量衰减,导致加工孔径偏小等品质不良的问题。因此,需要对上述干扰气体进行过滤,目前的做法采用如图1所示的过滤系统,即在压缩空气经过管路1进入镭射机2之前,依次通过干燥机3和两个水油过滤器4,用于过滤水、油、颗粒尘埃等杂质,但是对于如酒精、氨、硫化氢、氟氯碳化物、挥发性有机化合物等其他有机气体则无法去除,进而影响镭射机2的精度。
因此,如何提供一种能够去除压缩空气中的有机气体以提高镭射机精度的镭射机压缩空气过滤系统是本领域技术人员亟待解决的一个技术问题。
实用新型内容
本实用新型提供一种镭射机压缩空气过滤系统,以解决上述技术问题。
为解决上述技术问题,本实用新型提供一种镭射机压缩空气过滤系统,压缩空气通过管路进入镭射机中,所述管路中依次设有干燥机以及两个水油过滤器,所述管路中还设有一活性炭过滤器。
较佳地,所述活性炭过滤器设置于两个水油过滤器之间。
较佳地,所述活性炭过滤器包括罐体和填充于罐体内的椰壳活性炭滤芯。
较佳地,所述椰壳活性炭滤芯为圆柱体。
较佳地,圆柱体椰壳活性炭滤芯的直径为90±1mm、长度为300±1mm。
较佳地,所述罐体为玻璃钢罐、碳钢罐或不锈钢罐。
较佳地,所述管路与所述镭射机之间还设有气体干扰感应装置。
较佳地,所述气体干扰感应装置采用气体传感器。
与现有技术相比,本实用新型提供的镭射机压缩空气过滤系统,压缩空气通过管路进入镭射机中,所述管路中依次设有干燥机以及两个水油过滤器,所述管路中还设有一活性炭过滤器。本实用新型在压缩空气管路中增加活性炭过滤器,用于吸附酒精、氨、硫化氢、氟氯碳化物、挥发性有机化合物等有机气体,从而降低干扰气体的浓度,进而避免干扰气体对于镭射机光路造成影响导致的品质异常。
附图说明
图1为现有的镭射机压缩空气过滤系统的结构示意图;
图2为本实用新型一具体实施方式的镭射机压缩空气过滤系统的结构示意图。
图1中:1-管路、2-镭射机、3-干燥机、4-水油过滤器;
图2中:10-管路、20-镭射机、30-干燥机、40-水油过滤器、50-活性炭过滤器、60-气体干扰感应装置。
具体实施方式
为使本实用新型的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂,下面结合附图对本实用新型的具体实施方式做详细的说明。需说明的是,本实用新型附图均采用简化的形式且均使用非精准的比例,仅用以方便、明晰地辅助说明本实用新型实施例的目的。
本实用新型提供的镭射机压缩空气过滤系统,如图2所示,压缩空气通过管路10进入镭射机20中,所述管路10中依次设有干燥机30以及两个水油过滤器40,所述管路10中还设有一活性炭过滤器50。本实用新型在压缩空气管路10中增加活性炭过滤器50,用于吸附酒精、氨、硫化氢、氟氯碳化物、挥发性有机化合物等有机气体,从而降低干扰气体的浓度,进而避免干扰气体对于镭射机20光路造成影响导致的品质异常。
较佳地,请继续参考图2,所述活性炭过滤器50设置于两个水油过滤器40之间,较佳地,所述活性炭过滤器50包括罐体和填充于罐体内的椰壳活性炭滤芯,具体地,所述椰壳活性炭滤芯为圆柱体,圆柱体椰壳活性炭滤芯的直径为90±1mm、长度为300±1mm;所述罐体为玻璃钢罐、碳钢罐或不锈钢罐,以提高过滤效果。
较佳地,请继续参考图2,所述管路10与所述镭射机20之间还设有气体干扰感应装置60,较佳地,所述气体干扰感应装置60采用气体传感器,以检测压缩气体中气体的成分及含量,若检测结果显示干扰气体超出标准范围,则相应地对干燥机30、水油过滤器40或活性炭过滤器50进行清洁或更换,避免时间过长导致过滤效果下降。
本实用新型提供的镭射机压缩空气过滤系统,压缩空气通过管路10进入镭射机20中,所述管路10中依次设有干燥机30以及两个水油过滤器40,所述管路10中还设有一活性炭过滤器50。本实用新型在压缩空气管路10中增加活性炭过滤器50,用于吸附酒精、氨、硫化氢、氟氯碳化物、挥发性有机化合物等有机气体,从而降低干扰气体的浓度,进而避免干扰气体对于镭射机20光路造成影响导致的品质异常。
显然,本领域的技术人员可以对实用新型进行各种改动和变型而不脱离本实用新型的精神和范围。这样,倘若本实用新型的这些修改和变型属于本实用新型权利要求及其等同技术的范围之内,则本实用新型也意图包括这些改动和变型在内。
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