[实用新型]高耐候性转印膜有效
| 申请号： | 201520681935.0 | 申请日： | 2015-09-06 |
| 公开（公告）号： | CN205130673U | 公开（公告）日： | 2016-04-06 |
| 发明（设计）人： | 刘锦彩 | 申请（专利权）人： | 正清国际有限公司 |
| 主分类号： | B41M5/382 | 分类号： | B41M5/382 |
| 代理公司： | 北京科龙寰宇知识产权代理有限责任公司 11139 | 代理人： | 孙皓晨 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 高耐候性转印膜 | ||
【权利要求书】：
1.一种高耐候性转印膜，其特征在于：该转印膜具有基材层，该基材层底面设置有以氟碳材质涂布形成的图形层，该图形层表面涂布有氟碳材质的保护层。
2.如权利要求1所述的高耐候性转印膜，其特征在于：该转印膜的图形层转印于涂布有底漆层的金属材质的工件表面，且底漆层以氟碳材质涂布形成于工件表面。
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