[实用新型]一种光辐射阻隔薄膜

权利要求书

1.一种光辐射阻隔薄膜，由透明基膜以及附着于其上的反射层，其特征是：所述反射层由反射材料的底层区域、防护材料的顶层区域以及所述反射材料和所述防护材料混合在一起的中间层区域组成，所述底层区域采用Ag、Ag合金、Au、Au合金或Ti的反射材料，所述顶层区域采用NiCr或Ti的防护材料，所述底层区域、中间层区域和顶层区域均是在同一个真空溅镀室内依次连续成型，所述反射层的总厚度控制在5-50nm、所述中间层区域的厚度控制在0.5-15nm。

2.按权利要求1所述的光辐射阻隔薄膜，其特征是所述透明基膜与所述反射层之间设有第一吸收层，所述反射层顶面依次设有第二吸收层和保护层。

3.按权利要求2所述的光辐射阻隔薄膜，其特征是所述第二吸收层和所述保护层之间还依次设有另外的一个以上的反射层并间以一个以上的吸收层，另外的反射层的材质和结构与所述反射层相同，另外的吸收层的材质与所述吸收层相同。

4.按权利要求1或2所述的光辐射阻隔薄膜，其特征是所述反射层的厚度取10-35nm。

5.按权利要求1或2所述的光辐射阻隔薄膜，其特征是所述反射层的中间层区域的较佳厚度可以取0.5-10nm。

6.按权利要求2所述的光辐射阻隔薄膜，其特征是所述透明基膜和所述第一吸收层之间还设有改善附着性能的密着层，所述密着层的材料采用SiO_x或SiO_xN_y。

7.按权利要求2所述的光辐射阻隔薄膜，其特征是所述透明基膜和所述第一吸收层和所述反射层之间还设有用于改善吸收层的透射特性的改善层，所述改善层的材料采用ZnO、AZO或ITO。