[实用新型]一种芳构化低碳分离系统有效

专利信息
申请号: 201520670010.6 申请日: 2015-08-31
公开(公告)号: CN204981799U 公开(公告)日: 2016-01-20
发明(设计)人: 姚小军;朱云龙 申请(专利权)人: 武汉凯顺石化科技有限公司
主分类号: C10L3/12 分类号: C10L3/12
代理公司: 北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙) 11350 代理人: 汤东凤
地址: 430080 湖*** 国省代码: 湖北;42
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摘要:
搜索关键词: 一种 芳构化低碳 分离 系统
【说明书】:

技术领域

实用新型涉及一种分离系统,具体涉及一种芳构化低碳分离系统。属于精馏分离技术领域。

背景技术

目前芳构化低碳分离通常采用吸收解吸分离法,反应油气分为气液两相,分别由压缩机和进料泵向吸收塔进料;在吸收塔内由来自稳定塔底的吸收剂充分传质传热,干气由塔顶采出,塔底物料进入解析塔,经过塔底热源的加热,气相组分上升与顶部的进料进行充分的传质传热,塔顶的解析气循环至吸收塔继续完成吸收工序,而解析塔底的物料进入稳定塔经稳定塔底热源的加热,气相与进料和塔顶的回流发生传质传热,塔底采出C5以上组分,塔顶则为分离出来的C3、C4组分,该方法的优点是能够有效分离液化石油气(LPG,C3、C4组分)与C2以下组分,缺点是分离得到的产品纯度较低,能耗较高。

实用新型内容

本实用新型的目的是为克服上述现有技术的不足,提供一种芳构化低碳分离系统,其分离纯度高,降低能耗和生产成本,并避免了使用大量吸收剂可能造成的精馏塔液泛和淹塔问题。

为实现上述目的,本实用新型采用下述技术方案:

一种芳构化低碳分离系统,包括依次连接的分离器I、精馏塔和分离器II,精馏塔的塔顶通过冷凝器与分离器II连接,分离器II的底端与精馏塔连接,分离器I的入口、分离器II的顶端以及精馏塔的塔底分别与C0~C4轻烃进料装置、C0~C2干气排出装置以及C3~C4排出装置连接。

所述分离器I的顶端和底端合并连入精馏塔。

所述分离器II的底端通过回流泵与精馏塔连接。

所述冷凝器的入口和出口分别与混合冷剂加入装置和排出装置连接。

所述精馏塔的塔底通过采出泵与C3~C4排出装置连接。

本实用新型的工作过程:

C0~C4轻烃降温后进入分离器I,在分离器I内分为气液两相,合并进入精馏塔,经精馏塔塔底热源的加热发生汽化,并与进料和精馏塔塔顶回流进行传质转热,塔顶采出经过冷凝器冷凝后分为气液两相,液相经回流泵回流至精馏塔内与气相传质传热,气相为要分离出来的C2以下组分,精馏塔塔底为分离出来的LPG(C3、C4组分)产品。

本实用新型的有益效果:

本实用新型利用不同组分的沸点不同,高效分离LPG与C2以下组分。与现有技术相比,不需要大量吸收剂(稳定塔底油),不但减少液泛和淹塔等事故的发生,而且由于不使用大量吸收剂从而降低能耗,另外深冷分离还能提高分离效率,降低C2以下组分中的LPG组分,以及LPG产品中轻组分含量,获得的高品质LPG与含有轻组分的LPG相比受热膨胀较小,易于储存和运输。

附图说明

图1是本实用新型的分离系统示意图;

其中,1为分离器I,2为精馏塔,3为分离器II,4为冷凝器,5为回流泵,6为采出泵,7为C0~C4轻烃进料装置,8为C0~C2干气排出装置,9为C3~C4排出装置,10为混合冷剂加入装置,11为混合冷剂排出装置。

具体实施方式

下面结合附图和实施例对本实用新型进行进一步的阐述,应该说明的是,下述说明仅是为了解释本实用新型,并不对其内容进行限定。

实施例1:

一种芳构化低碳分离系统,包括依次连接的分离器I1、精馏塔2和分离器II3,精馏塔2的塔顶通过冷凝器4与分离器II3连接,分离器II3的底端与精馏塔2连接,分离器I1的入口、分离器II3的顶端以及精馏塔2的塔底分别与C0~C4轻烃进料装置7、C0~C2干气排出装置8以及C3~C4排出装置9连接。分离器I1的顶端和底端合并连入精馏塔2。分离器II3的底端通过回流泵5与精馏塔2连接。冷凝器4的入口和出口分别与混合冷剂加入装置10和混合冷剂排出装置11连接。精馏塔2的塔底通过采出泵6与C3~C4排出装置连接9。

本实用新型的工作过程:

C0~C4轻烃降温后进入分离器I1,在分离器I1内分为气液两相,合并进入精馏塔2,经精馏塔2塔底热源的加热发生汽化,并与进料和精馏塔2塔顶回流进行传质转热,塔顶采出经过冷凝器4冷凝后分为气液两相,液相经回流泵5回流至精馏塔2内与气相传质传热,气相为要分离出来的C2以下组分,精馏塔2塔底为分离出来的LPG(C3、C4组分)产品。

上述虽然结合附图对本实用新型的具体实施方式进行了描述,但并非对本实用新型保护范围的限制,在本实用新型的技术方案的基础上,本领域技术人员不需要付出创造性劳动即可做出的各种修改或变形仍在本实用新型的保护范围以内。

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