[实用新型]治理合成革废气的装置有效
| 申请号: | 201520493832.1 | 申请日: | 2015-07-06 |
| 公开(公告)号: | CN204973576U | 公开(公告)日: | 2016-01-20 |
| 发明(设计)人: | 雷乐成;陈杰;何炬平 | 申请(专利权)人: | 浙江浙大环境工程有限公司 |
| 主分类号: | B01D53/86 | 分类号: | B01D53/86;B01D53/72;B01D53/75;B01D50/00 |
| 代理公司: | 杭州天勤知识产权代理有限公司 33224 | 代理人: | 胡红娟 |
| 地址: | 310007 浙江省杭州市西*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 治理 合成革 废气 装置 | ||
技术领域
本实用新型涉及化工吸附分离和污染物控制技术领域,尤其涉及一种治理合成革废气的装置。
背景技术
近年来,国内大面积爆发灰霾天气的次数和持续时间逐年增加,严重影响国民身体健康和生活质量。灰霾危害大,影响范围广,已成为当今影响中国大气环境质量的主要问题之一,也是当下百姓最为关注的大气环境问题。
工业挥发性有机污染物(VOCs)、氮氧化物、二氧化硫、机动车尾气的大量排放是灰霾形成的主要原因。国内工业粉尘、二氧化硫和氮氧化物均已出台严格的标准来控制排放。VOCs的治理相对滞后,但已引起高度重视。《重点区域大气污染防治“十二五”规划》规定石化、化工、喷涂、印刷、纺织印染、皮革加工、制鞋、人造板生产、日化、食品加工等行业需开展VOCs收集与净化处理,净化率不小于90%。
合成革、人造革加工过程中会产生大量的有机废气,其中有机溶剂往革基布上印刷过程中产生的废气主要成份为二甲基甲酰胺(DMF),其他还有甲苯(TOL)、丁酮(MEK)等,该废气若不经治理排入大气,将会严重污染大气环境。因此在各行各业开展“治霾”行动的大背景下,开发经济、有效、安全、稳定的人造革三版印刷废气治理技术刻不容缓。
公开号为CN204193748U的中国专利文献中公开了一种治理印刷、广告业有机废气的一体化装置,包括废气收集系统、废气吸附净化系统、气流均匀化系统、检修更换系统与排放控制系统。但该一体化装置针对合成革废气存在去除率达不到处理要求等问题。
实用新型内容
本实用新型公开了一种合成革废气的治理装置,利用合成革废气中各成分的物化性质的区别,分别采用吸收法、光电一体化等技术分段去除废气中的有害成分,达到直接排放的目的。
一种治理合成革废气的装置,包括依次连通的DMF吸收塔、除雾器、光电一体化设备、旋流板吸收塔和排气筒;
所述DMF吸收塔具有通入合成革废气的进风口;
DMF吸收塔的出口与除雾器入口通过第一风管连通;
旋流板吸收塔的出口与排气筒入口通过第二风管连通;
光电一体化设备包括外壳和依次布置在在外壳内的过滤段、光催化段、放电处理段和活性炭吸收段,其中过滤段一侧与除雾器的出口对接,活性炭吸收段一侧与旋流板吸收塔的入口对接。
合成革废气经收集后首先经进风口进入DMF吸收塔,吸收DMF及部分VOCs。吸收完毕后经第一风管通入除雾器中,去除由DMF吸收塔中带出的部分水汽和未处理完全的固态颗粒物后,直接进入光电一体化设备。在光电一体化设备中首先经过滤段,经机械过滤初步去除除雾器未去除完全的颗粒物,然后分别与光催化段、放电处理段中,在等离子体和光催化耦合产生的高能电子、羟基自由基、氧自由基、臭氧等高活性粒子发生反应,将废气中的VOCs分子(如乙酸丁酯、乙酸乙酯、苯、甲苯、二甲苯、甲醛等)最终降解为二氧化碳和水,此过程可能形成部分气溶胶;最后经活性炭吸收段,吸附未降解完全的部分VOCs分子和臭氧等活性粒子,吸附的VOCs分子和臭氧等活性粒子会继续反应,从而实现活性炭吸附和再生同时进行。经光电一体化设备处理后的废气进入旋流板吸收塔,在吸收液作用下,去除少量气溶胶。最后在离心风机的作用下,经前述多个设备处理后的废气进入排气筒中,最终经高空排放至大气中。
作为优选,所述的DMF吸收塔包括塔壳以及由下至上安装在塔壳内至少两级吸收单元,每个吸收单元自上而下依次包括吸收液喷管、液体分布器和不锈钢填料。
作为优选,相邻的吸收单元之间设有升气板。
进一步优选,所述的塔壳由304不锈钢制成,所述的吸收单元为三级,第一级吸收单元采用的吸收液为10%DMF溶液,第二级吸收单元采用的吸液为5%DMF溶液,第三级吸收单元采用的吸收液为清水,以保证合成革废气中DMF的吸收完全。且当第一级吸收单元中,吸收液中的DMF浓度达到15%时,将吸收液送往精馏塔用于回收DMF,还可以实现DMF的再生回收。
所述的除雾器外壳由不锈钢制成,作为优选,所述的除雾器内设有不锈钢丝网。
作为优选,所述的光电一体化设备中:
过滤段内设有不锈钢丝网;
光催化段内设有紫外灯以及负载型铝基二氧化钛,所述的紫外灯采用低压汞灯,波长为189~254nm;
放电处理段内设有放电电极;
活性炭吸收段内设有活性炭填料。
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