[实用新型]一种导磁性材料磁控溅射平面靶的拼靶机构有效

专利信息
申请号: 201520488630.8 申请日: 2015-07-09
公开(公告)号: CN204849011U 公开(公告)日: 2015-12-09
发明(设计)人: 刘敏;金云华;李抚龙;赵丽敏 申请(专利权)人: 爱蓝天高新技术材料(大连)有限公司
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 116000 辽*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要:
搜索关键词: 一种 磁性材料 磁控溅射 平面 靶机
【权利要求书】:

1.一种导磁性材料磁控溅射平面靶的拼靶机构,靶体(1)内通过螺栓(2)固定着导磁体(3),导磁体(3)上设有磁体组件(6),其特征在于,在靶体(1)下端通过螺钉(12)固定着背板(4),背板(4)与靶体(1)之间设有O型密封圈(5),背板(4)下端固定着至少三块中部靶材(7),在背板(4)与中部靶材(7)之间设有石墨垫(8),靠外侧的两个中部靶材(7)分别连接着端部靶材(9),所述的端部靶材(9)的边沿上设有压条(11),所述的压条(11)通过内六角螺栓(10)固定在背板(4)和靶体(1)上。

2.根据权利要求1所述的一种导磁性材料磁控溅射平面靶的拼靶机构,其特征在于,所述的中部靶材(7)的横截面Ⅰ(13)为梯形,且梯形斜边的角度为72°至80°。

3.根据权利要求1所述的一种导磁性材料磁控溅射平面靶的拼靶机构,其特征在于,所述的端部靶材(9)的横截面Ⅱ(14)为梯形,且梯形斜边的角度为72°至80°。

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