[实用新型]一种可替换的引晶观察窗口结构有效

专利信息
申请号: 201520480615.9 申请日: 2015-07-01
公开(公告)号: CN204779917U 公开(公告)日: 2015-11-18
发明(设计)人: 张会选;李凯;徐峰 申请(专利权)人: 黄山市东晶光电科技有限公司
主分类号: C30B17/00 分类号: C30B17/00
代理公司: 深圳市百瑞专利商标事务所(普通合伙) 44240 代理人: 沈陈;杨大庆
地址: 245200 安徽*** 国省代码: 安徽;34
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摘要:
搜索关键词: 一种 替换 观察 窗口 结构
【说明书】:

技术领域

实用新型涉及一种与引晶炉相连接的观察窗口结构,具体涉及一种可替换的引晶观察窗口结构。

背景技术

泡生法是在一根受冷的提拉杆上安装籽晶,将坩埚内原料熔化为熔体,然后将籽晶与熔体接触,如果界面的温度适合,熔体则沿籽晶晶向进行结晶生长(引晶)。而引晶作为晶体生长的重要环节,直接关系到晶体质量的好坏,其非常依赖于技术人员的引晶经验和操作水平。然而目前还没有统一量化的标准和操作规程来控制引晶过程,实现自动化引晶。

目前在引晶期间,技术人员需要通过观察窗口来查看籽晶与熔体的接触和生长情况,进而做出正确的判断,但是原料熔化到引晶过程结束一般为20小时左右,在此过程中,由于炉内温度高达2100℃,炉内钨钼等杂质挥发物会不断吸附在观察窗口上,导致观察窗口的可视性被逐渐破坏,直接影响到引晶效果。

实用新型内容

为了克服上述问题,本实用新型提供一种可替换的引晶观察窗口结构,其通过可替换的窗口设计,在保证真空度正常的状态下,确保在晶体生长过程中可随时更换透镜。

本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是:一种可替换的引晶观察窗口结构,包括与引晶炉相连接的观察口接管,与观察口接管相连的密封下盖,安装在密封下盖上的密封上盖,与观察口接管对应设置的视镜压盖,以及安置在视镜压盖与密封上盖之间的视镜。所述密封上盖与密封下盖之间设有一空腔,空腔内设有一组透镜,连接各透镜的拨盘,以及与拨盘相连且贯穿于密封上盖的拨动件。工作时,人眼依次透过视镜、透镜、观察口接管观察引晶炉内的生长情况,当某一片透镜受挥发物污染后,转动拨动件,使得另一片透镜运动至先前透镜的位置,实现对引晶过程的不间断观察。

作为本实用新型的具体实施方案,透镜在拨盘上均匀布置有三个,当然其并不限于三个,也可以是其他数量,如四个、五个。

作为本实用新型的一种改进,在视镜压盖靠近密封上盖一侧还设有用于安置视镜的阶梯槽。

为防止透镜在空腔内出现晃动影响引晶过程的观察,在拨动件上还设置有限位结构。上述限位结构的实施方式有多种,如在拨动件与密封下盖之间设置压簧。在通常情况下压簧将拨动件向上抵压,当需要更换时,向下按压并转动拨动件。当然限位结构的具体结构不限于上述方式,本领域技术人员可采用其他结构来实现,在此不再赘述。

本实用新型与现有技术相比,其优点在于:

本实用新型通过在观察口接管与视镜之间安装密封上盖、密封下盖、拨动件、拨盘和一组透镜,透镜安置在密封上盖与密封下盖之间的空腔内。工作时,人眼依次透过视镜、透镜、观察口接管观察引晶炉内的生长情况,当某一片透镜受挥发物污染后,只需转动拨动件,使得拨盘上的另一片透镜运动至先前透镜的位置,实现对引晶过程的不间断观察。此外,采用三片透镜联合设计,在保证真空度正常的状态下,确保在晶体生长过程中可随时更换。本实用新型结构简单,适用性强,可广泛应用在晶体引晶领域上。

以下将结合附图和实施例,对本实用新型进行较为详细的说明。

附图说明

图1为本实用新型的剖视图。

图2为图1的A-A剖视图。

图中,1、观察口接管;2、密封下盖;3、密封上盖;4、视镜压盖;5、视镜;6、透镜;7、拨盘;8、拨动件;9、阶梯槽。

具体实施方式

实施例,请参阅图1,一种可替换的引晶观察窗口结构,包括与引晶炉(图中未示出)相连接的观察口接管1,与观察口接管1通过螺栓紧固的密封下盖2,与密封下盖2通过螺栓连接的密封上盖3,以及通过螺栓连接在密封上盖3上的视镜压盖4。其中,视镜压盖4与观察口接管1对应设置,在视镜压盖4靠近密封上盖3一侧还设有一阶梯槽9,该阶梯槽内安置有视镜5。在密封上盖3与密封下盖2之间设有一空腔,空腔内设有一组透镜6,连接各透镜的拨盘7,以及与拨盘7相连且贯穿于密封上盖3的拨动件8。上述观察口接管1、一透镜4和视镜5形成观察通道。优选的,拨动件8上还设置有防止透镜6出现晃动的限位结构。

请参阅图2,透镜6在拨盘7上均匀布置有三个,且透镜的形状为圆形。拨动件8设置在拨盘7的圆心处。

以上所述仅是对本实用新型的较佳实施例,并非对本实用新型的范围进行限定,故在不脱离本实用新型设计精神的前提下,本领域普通技术人员对本实用新型所述的构造、特征及原理所做的等效变化或装饰,均应落入本实用新型的保护范围内。

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