[实用新型]一种均质乳化头有效
申请号: | 201520436679.9 | 申请日: | 2015-06-24 |
公开(公告)号: | CN204841550U | 公开(公告)日: | 2015-12-09 |
发明(设计)人: | 何非 | 申请(专利权)人: | 广州市著力化工设备有限公司 |
主分类号: | B01F15/00 | 分类号: | B01F15/00;B01F3/08 |
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地址: | 510000 广东省广*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 乳化 | ||
技术领域
本实用新型涉及一种均质乳化头。
背景技术
均质乳化机是一种集搅拌、均质、粉碎和溶解为一体的装置,被广泛应用于日用化工、精细化工及生物医药等众多领域。然而,由于目前均质乳化机的乳化头大多数只是有中间的转子来搅拌物料,这样的均质效果很一般,达不到化工行业超细小微粒的高要求。
实用新型内容
为了克服现有技术的不足,本实用新型的目的在于提供一种均质乳化头,能使物料均匀精细地分散乳化,满足超细小的微粒要求。
本实用新型的目的通过以下技术方案实现:
一种均质乳化头,包括定子、转子、输入轴和底座,定子为一圈体,该圈体的内侧面圆周排列有多个挤压条,相邻挤压条之间形成流出间隔,圈体的侧壁开有与流出间隔连通的排出孔,该圈体固定于底座顶部;转子固定套装于输入轴,且该转子的外表面与挤压条接触形成转动配合。
优选地,转子包括空心柱及至少三个弧形叶片,空心柱固定套装于输入轴,弧形叶片的一端与空心柱的柱壁固接,弧形叶片的另一端与挤压条滑动配合。
优选地,排出孔为多个,沿圈体的壁体的周向间隔排布,每个排出孔分别与一个挤压条相对,挤压条与排出孔间相隔形成供流出间隔与排出孔连通的缝隙。
与现有技术相比,本实用新型具有如下有益效果:
(1)本实用新型由于转子高速旋转所产生的高切线速度和高频机械效应带来的强劲动能,使物料在定子、转子狭窄的间隙中受到强烈的机械及液力剪切、离心挤压、液层磨擦、撞击撕裂和湍流等综合作用,从而使不相溶的固相、液相、气相在相应成熟工艺和适量添加剂的共同作用下,使物料瞬间均匀精细地分散乳化,经过高频的循环往复挤压力,最终得到稳定的高品质产品,经排出孔输出,满足超细小的微粒要求;
(2)本实用新型特别适合于物料的后处理工段,通过定子、转子间形成的机械作用力,完成乳化功能,具有处理量大,能耗小,适合于工业化连续化生产;处理过的物料具有颗粒分布范围窄,均匀度好的特点;省时、高效、节约能源,生产效率高;
(3)本实用新型通过转子和定子的转动配合,其装拆简单,易清洗,满足不同场合的清洗需要,使物料100%通过分散乳化,而且,噪音低,运转平稳,维护方便。
附图说明
图1为本实用新型一种均质乳化头的俯视图;
图2为本实用新型一种均质乳化头的主视图。
图中:1、定子;10、圈体;11、挤压条;12、流出间隔;13、排出孔;2、转子;21、空心柱;22、弧形叶片;3、底座。
具体实施方式
下面结合附图和具体实施例对本实用新型作进一步的详细说明。
如图1-2所示的一种均质乳化头,包括定子1、转子2、输入轴(图中未示出)和底座3,定子1为一圈体10,该圈体10的内侧面圆周排列有多个挤压条11,相邻挤压条11之间形成流出间隔12,圈体10的侧壁开有与流出间隔12连通的排出孔13,该圈体10固定于底座3顶部;转子2固定套装于输入轴,且该转子2的外表面与挤压条11接触形成转动配合。
本均质乳化头通过底座3连接安装电机,电机轴作为所述输入轴与转子2实现一体连接,然后将底座3安装到相应大小的乳化锅下底部(定子1与转子2部分会卡入乳化锅内部,其余部分在乳化锅外部),工作时由电机带动转子2高速运转,定子1是固定不动,物料从乳化锅入料,进入圈体10,通过转子2的初步搅拌,物料下沉,同时物料持续被转子2高速旋转产生的离心力吸进,物料在转子2与定子1之间被撕扯、搅碎、细化,最终实现乳化。
为更好地、更均匀地搅拌物料,转子2包括空心柱21及至少三个弧形叶片22,空心柱21固定套装于输入轴,弧形叶片22的一端与空心柱21的柱壁固接,弧形叶片22的另一端与挤压条11滑动配合。
为更快速地排出乳化后的产品,以形成更大的离心力来吸入物料,形成持续的、快速的乳化工作过程,本例的排出孔13为多个,沿圈体10的壁体的周向间隔排布,每个排出孔13分别与一个挤压条11相对,挤压条11与排出孔13间相隔形成供流出间隔12与排出孔13连通的缝隙(图中未示出),缝隙、流出间隔12、排出孔13将形成弯曲的通道,以使物料尽可能长时间地保留在圈体10内被转子2撕扯、搅碎、细化,更利于形成更细小的颗粒乳化物。
本实用新型的实施方式不限于此,按照本实用新型的上述内容,利用本领域的普通技术知识和惯用手段,在不脱离本实用新型上述基本技术思想前提下,本实用新型还可以做出其它多种形式的修改、替换或变更,均落在本实用新型权利保护范围之内。
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