[实用新型]一种曝光机对较小片子进行操作的样品平台

说明书

技术领域

本实用新型属于曝光机配件领域，尤其涉及一种曝光机对较小片子进行操作的样品平台。

背景技术

激光直写仪由于受平台尺寸的影响，只能操作直径大于40mm片子，这对于科学实验来说很不方便。实际的科研工作中由于受镀膜仪载样台的限制，一般衬底的尺寸都在20mm×20mm左右，甚至有些特殊的衬底(比如砷化镓)尺寸也大概在20mm×20mm，那么像这类科研中常要用到的较小片子，激光直写机就无法很好的加工制备。此时常常需要把小片子用胶粘到大片子上进行操作，如果粘的不是很平整，就会引起涂胶不均匀或者曝光时聚焦状态不一样，从而影响最终的试验结果。这就需要找到一种设计，既能满足紧固小片子从而进行曝光操作，又能满足多次曝光放样角度差不能大于5mrad。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种曝光机对较小片子进行操作的样品平台，旨在解决激光直写机由于受平台尺寸的影响，对于小片子进行曝光很不方便的问题。

本实用新型是这样实现的，一种曝光机对较小片子进行操作的样品平台，所述样品台为包括光滑正、反两相对面的方形玻璃片，所述样品台一边侧设有定位钉孔，且所述样品台反面设有环形凹槽以及若干条形凹槽；

所述样品台中心设有中心孔，以及以所述中心孔为中心对称分布的若干通孔；各所述通孔与一条形凹槽一端对接，所述条形凹槽另一端朝远离所述中心孔方向伸出并与环形凹槽对接；

所述样品台正面设有定位线，所述定位线与样品台设有定位钉孔的边侧平行。

优选地，所述样品台正面设有若干条彼此平行的所述定位线。

相比于现有技术的缺点和不足，本实用新型具有以下有益效果：

(1)本实用新型样品台上设有通孔，通过该通孔对样品进行真空吸附，防止曝光时样品滑动；本实用新型所采用真空吸附的方式，使得操作小尺寸样品得以实现，可以对直径大于20mm的片子进行曝光，无需将小片子用胶粘到大片子上，改善了以前激光直写仪无法对小尺寸样品进行曝光的缺陷。

(2)本实用新型通过引入定位线，保证了多层曝光的精度，可以很方便的对小片子进行多次曝光，另外对于较薄的小片子也完全可以很方便进行曝光操作。

附图说明

图1是本实用新型曝光机对较小片子进行操作的样品平台在安装样品后的立体结构示意图；

图2是本实用新型曝光机对较小片子进行操作的样品平台在安装样品后的平面结构示意图。

具体实施方式

为了使本实用新型的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本实用新型进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本实用新型，并不用于限定本实用新型。

如图1和2所示，其中，图1是本实用新型曝光机对较小片子进行操作的样品平台在安装样品后的立体结构示意图；图2是本实用新型曝光机对较小片子进行操作的样品平台在安装样品后的平面结构示意图。

一种曝光机对较小片子进行操作的样品平台，所述样品台1为包括光滑正、反两相对面的方形玻璃片，所述样品台1一边侧设有定位钉孔6，且所述样品台1反面设有环形凹槽2以及若干条形凹槽3；

所述样品台1中心设有中心孔，以及以所述中心孔为中心对称分布的若干通孔4；各所述通孔4与一条形凹槽3一端对接，所述条形凹槽3另一端朝远离所述中心孔方向伸出并与环形凹槽2对接；

所述样品台1正面设有定位线7，所述定位线7与样品台1设有定位钉孔6的边侧平行。

在本实用新型实施例中，样品台1是一个方形的玻璃片子，其尺寸为50mm×50mm，厚度为1mm。环形凹槽2的环内半径为19mm，外半径为22mm，深度为0.4mm。样品台1背面的导通条形凹槽3，其尺寸为1mm×20mm，深度为0.4mm。样品台1上的通孔4，孔径1mm，孔深1mm。

在本实用新型的实际应用过程中，将样品5置于样品台1正面的中心，将样品台1置于激光直写平台上，样品台1的中心孔与位于激光直写平台中心的真空吸附孔对接导通，而环形凹槽2把激光直写大平台上的真空吸附孔完全覆盖，并且起到密闭气体的作用，以中间孔为圆心半径为10mm圆圈上的通孔4是通过条形凹槽3与环形凹槽2连接起来的。定位线7用以精准定位样5。

此时，样品台1的通孔4、中心孔与激光直写平台的真空吸附孔连接起来，样品5放置到样品台1上，且将样品台1上的通孔4、中心孔完全覆盖，在激光直写平台抽真空作用下，就达到样品5进行紧固的目的。