[实用新型]一种立式加工中心装置有效
| 申请号: | 201520416061.6 | 申请日: | 2015-06-12 |
| 公开(公告)号: | CN204843691U | 公开(公告)日: | 2015-12-09 |
| 发明(设计)人: | 沈伟平 | 申请(专利权)人: | 南通百盛精密机械有限责任公司 |
| 主分类号: | B23Q11/00 | 分类号: | B23Q11/00 |
| 代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
| 地址: | 226000 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 立式 加工 中心 装置 | ||
技术领域
本实用新型涉机械设备技术领域,尤其涉及一种立式加工中心装置。
背景技术
立式加工中心是指主轴轴线与工作台垂直设置的加工中心,主要适用于加工板类、盘类、模具及小型壳体类复杂零件。立式加工中心能完成铣、镗削、钻削、攻螺纹和用切削螺纹等工序。立式加工中心最少是三轴二联动,一般可实现三轴三联动。有的可进行五轴、六轴控制。立式加工中心立柱高度是有限的,对箱体类工件加工范围要减少,这是立式加工中心的缺点。但立式加工中心工件装夹、定位方便;刃具运动轨迹易观察,调试程序检查测量方便,可及时发现问题,进行停机处理或修改;冷却条件易建立,切削液能直接到达刀具和加工表面;三个坐标轴与笛卡儿坐标系吻合,感觉直观与图样视角一致,切屑易排除和掉落,避免划伤加工过的表面。与相应的卧式加工中心相比,结构简单,占地面积较小,价格较低。
传统的加工中心在加工过程中产生的金属碎屑一般落入集料槽内,然后工人进行定期清理,这样不仅造成工人劳动强度大,同时在清理过程中容易损伤加工中心的零部件,同时加工中心底部支腿容易发生磨损,这样加工中心放置时不能保持水平,影响加工精度。
实用新型内容
本实用新型的目的是为了克服现有技术的不足,提供了一种立式加工中心装置。
本实用新型是通过以下技术方案实现:
一种立式加工中心装置,包括底座与加工中心主体,底座底部设有四个T型支腿,所述底座内部设有落料槽,所述落料槽内部一侧上设有第一滚筒,另一侧上设有第二滚筒,所述加工中心主体外侧上设有第三滚筒,所述第一滚筒、第二滚筒与第三滚筒上缠绕有传送带,所述第三滚筒下侧设有支撑架,且第三滚筒为驱动滚筒,所述每一个T型支腿下端面上设有耐磨层。
作为本实用新型的优选技术方案,所述第一滚筒、第二滚筒的轴线在同一水平面上。
作为本实用新型的优选技术方案,所述第三滚筒的轴线位于第一滚筒、第二滚筒的轴线之上。
作为本实用新型的优选技术方案,所述耐磨层粘贴在每一个T型支腿下端面上,且厚度为5mm~7mm。
与现有的技术相比,本实用新型的有益效果是:本实用新型结构简单,设计合理,本实用新型通过设置第一滚筒、第二滚筒、第三滚筒与传送带,这样加工中心在加工过程中产生的金属碎屑落入到传送带上,在第一滚筒、第二滚筒、第三滚筒的作用下将金属碎屑排出,避免了工人定期清理所造成的劳动强度大以及对零部件造成磨损;通过设置耐摩层,这样耐磨层能够减少T型支腿的磨损量,确保加工中心处于水平状态,确保加工精度,实用性好。
附图说明
图1为本实用新型的结构示意图。
图中:1.底座;2.加工中心主体;3.第一滚筒;4.第二滚筒;5.第三滚筒;6.支撑架;7.传送带;8.T型支腿;9.耐磨层。
具体实施方式
为了使本实用新型的目的、技术方案及优点更加清楚明白,以下结合附图及实施例,对本实用新型进行进一步详细说明。应当理解,此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本实用新型,并不用于限定本实用新型。
请参阅图1,图1为本实用新型的结构示意图。
一种立式加工中心装置,包括底座1与加工中心主体2,底座1底部设有四个T型支腿8,所述底座1内部设有落料槽101,所述落料槽101内部一侧上设有第一滚筒3,另一侧上设有第二滚筒4,其中所述第一滚筒3、第二滚筒4的轴线在同一水平面上。所述加工中心主体2外侧上设有第三滚筒5,其中所述第三滚筒5的轴线位于第一滚筒3、第二滚筒4的轴线之上,这样便于将金属碎屑排入推车内。
所述第一滚筒3、第二滚筒4与第三滚筒5上缠绕有传送带7,所述第三滚筒5下侧设有支撑架6,且第三滚筒5为驱动滚筒,这样加工中心在加工过程中产生的金属碎屑落入到传送带7上,在第一滚筒3、第二滚筒4、第三滚筒5的作用下将金属碎屑排出,避免了工人定期清理所造成的劳动强度大以及对零部件造成磨损。所述每一个T型支腿8下端面上设有耐磨层9,其中所述耐磨层9粘贴在每一个T型支腿8下端面上,且厚度为5mm~7mm,这样耐磨层9能够减少T型支腿8的磨损量,确保加工中心处于水平状态,确保加工精度,实用性好。
以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已,并不用以限制本实用新型,凡在本实用新型的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等,均应包含在本实用新型的保护范围之内。
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