[实用新型]一种转轴运行平稳的晶圆清洗装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及轴承技术领域，特别是指一种转轴运行平稳的晶圆清洗装置。

背景技术

现有的轴承箱组件通常是在一外环套内设置两轴承，并在两轴承之间设置一间隔环，一转轴穿设通过外环套、两轴承以及间隔环，通过两轴承来支撑转轴并帮助运转，而间隔环具有隔开两轴承的功能，与转轴之间并未接触。在转轴运转过程中，两轴承之间的转轴因未受支撑，而产生转轴晃动的情况，一但转轴晃动无法平稳运转，便会改变毛刷清洗晶圆的位置，影响晶圆的精密度。

实用新型内容

本实用新型要解决的技术问题是提供一种转轴运行平稳的晶圆清洗装置，以解决上述技术问题。

为解决上述技术问题，本实用新型的实施例提供一种转轴运行平稳的晶圆清洗装置，包括一轴承箱，所述轴承箱包括：一外环套、一第一轴承、一第二轴承、一大间隔环、一小间隔环以及一挡止件，所述外环套设有轴向贯穿的一第一端以及一第二端，所述外环套设有中空的一内腔，所述第一端的口径小于所述内腔的口径，接近所述第二端的所述内腔环形设有一凹槽，所述第一轴承、所述第二轴承设在所述内腔内，所述大间隔环、所述小间隔环分别设在所述内腔内并且同时设在所述第一轴承、所述第二轴承之间，所述大间隔环设在所述小间隔环的外部周围，所述挡止件配合所述凹槽设置，防止所述第一轴承、所述第二轴承以及所述大间隔环、所述小间隔环脱离所述外环套。

所述第一轴承设有可相对旋转的一内环一以及一外环一，所述第二轴承设有可相对旋转的一内环二以及一外环二，所述小间隔环的两端分别接触所述内环一、所述内环二，所述小间隔环的内径与所述内环一、所述内环二的内径相等，所述大间隔环的两端分别接触所述外环一、所述外环二，所述大间隔环的外径与所述外环一、所述外环二的外径相等，所述大间隔环与所述小间隔环之间互相不接触设置。

所述小间隔环的轴向长度与所述大间隔环的轴向长度相等，所述挡止件为一C型夹体，所述挡止件组合完成时，所述第一轴承、所述第二轴承夹紧所述大间隔环以及所述小间隔环。

所述内腔、所述内环一、所述内环二与所述小间隔环之间形成连续的一轴孔，所述轴孔供一转轴插设。

本实用新型的上述技术方案的有益效果如下：

由于第一轴承以及第二轴承用来支撑以及帮助转轴顺利运转，大间隔环主要是将第一轴承、第二轴承隔开，避免第一轴承、第二轴承运转时相互干涉，而小间隔环的作用主要是支撑第一轴承以及第二轴承之间的转轴，小间隔环与第一轴承、第二轴承的内环一、内环二会随着转轴转动，小间隔环使转轴在运转过程中不容易晃动，能更平稳的运转，有利于使转轴可应用于清洗晶圆等精密仪器上。

附图说明

图1是本实用新型实施例中的轴承箱的立体结构分解示意图。

图2是本实用新型实施例中的轴承箱的立体结构组合示意图。

图3是本实用新型实施例中的轴承箱的剖面图。

图4是本实用新型实施例的应用示意图一。

图5是本实用新型实施例的应用示意图二。

具体实施方式

为使本实用新型要解决的技术问题、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图及具体实施例进行详细描述。