[实用新型]臭氧氧化装置有效
申请号: | 201520260904.8 | 申请日: | 2015-04-27 |
公开(公告)号: | CN204569528U | 公开(公告)日: | 2015-08-19 |
发明(设计)人: | 金沉 | 申请(专利权)人: | 苏州清然环保科技有限公司 |
主分类号: | C02F1/78 | 分类号: | C02F1/78 |
代理公司: | 苏州威世朋知识产权代理事务所(普通合伙) 32235 | 代理人: | 杨林洁 |
地址: | 215123 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 臭氧 氧化 装置 | ||
技术领域
本实用新型涉及一种臭氧氧化装置,尤其涉及一种气液混合效果好、臭氧利用率高的臭氧氧化装置。
背景技术
随着水资源日益紧缺和水污染事件的频繁爆发,人们对于水环境保护和水污染治理愈发重视。国家通过制定更为严格的污水排放标准来推动节能减排工作的开展,污水的达标排放以及在此基础上开展回收利用已变得刻不容缓。
作为水污染的主要来源之一,石化、印染、制药等行业面临着相当严峻的形势。排放标准的提高使得大部分企业现有的污水处理设施难以满足处理要求,污水处理后的外排水中有机物超标尤为严重。污水经过预处理和生化处理后,出水中仍残留有一定浓度的有机物,正是这类有机物影响了水质的达标,而这类污染物以难降解有机物为主,毒性较强且可生化性差,常规的处理工艺难以取得满意的效果,需要通过其它的深度处理方法才能去除。
臭氧氧化技术凭借其强氧化能力而在深度处理领域占有一席之地。臭氧能氧化大部分有机物,使水体脱色、除臭,将复杂有机物转化成简单小分子有机物,降低毒性,提高可生化性能,且臭氧的分解产物是氧气,因此不会造成二次污染。通过臭氧氧化或者与其他工艺组合处理达到深度处理的目的。
臭氧氧化涉及到臭氧的溶解和逸出、臭氧反应与臭氧的分解,因此,提高臭氧在水中的溶解度,增强臭氧与水的混合效果是提高氧化效率的关键。而目前,传统的臭氧氧化存在臭氧利用率低的问题,造成臭氧投加量增大,运行和投资成本大幅提高,从而影响了臭氧氧化技术的应用。
有鉴于此,有必要对现有的臭氧氧化装置予以改进,以解决上述问题。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种气液混合效果好、臭氧利用率高的臭氧氧化装置。
为实现上述实用新型目的,本实用新型提供了一种臭氧氧化装置,用于废液处理,所述臭氧氧化装置包括氧化池、给所述氧化池提供臭氧的臭氧单元,所述氧化池设有供废液分别流入、流出氧化池的进水口、出水口,所述臭氧氧化装置还包括增强臭氧与废液混合的混合装置。
作为本实用新型的进一步改进,所述混合装置包括设于氧化池内的两端开口的混合筒、通过空气管道给所述混合筒内提供空气的空压装置;所述混合筒位于进水口与出水口之间。
作为本实用新型的进一步改进,位于所述混合筒内的所述空气管道的端部连接有第一微孔扩散器。
作为本实用新型的进一步改进,所述混合筒具有上端口与下端口,第一微孔扩散器位于下端口处。
作为本实用新型的进一步改进,所述臭氧单元包括提供臭氧的臭氧发生装置、一端连接于所述臭氧发生装置并将臭氧输送至氧化池的臭氧管道,所述臭氧管道的另一端位于氧化池的底部。
作为本实用新型的进一步改进,位于所述氧化池底部的臭氧管道的端部连接有第二微孔扩散器。
作为本实用新型的进一步改进,所述第二微孔扩散器包括将臭氧输送至所述混合筒内的内第二微孔扩散器、将臭氧输送至所述混合筒外的外第二微孔扩散器。
作为本实用新型的进一步改进,所述混合筒具有上端口与下端口,所述内第二微孔扩散器位于下端口在氧化池底部的投影内,所述外第二微孔扩散器位于下端口在氧化池底部的投影外。
作为本实用新型的进一步改进,所述氧化池内设有至少两个间隔设置的混合筒。
作为本实用新型的进一步改进,所述出水口高于所述进水口,所述混合筒具有上端口与下端口,所述上端口低于出水口。
本实用新型的有益效果是:本实用新型的臭氧氧化装置通过混合装置增强了臭氧与废液的混合效果,提高了臭氧的利用率,降低了臭氧的投入量,降低了成本。
附图说明
图1是本实用新型的臭氧氧化装置的结构示意图。
具体实施方式
为了使本实用新型的目的、技术方案和优点更加清楚,下面结合附图和具体实施例对本实用新型进行详细描述。
请参阅图1所示,本实用新型提供一种用于废水等废液处理的臭氧氧化装置100,包括氧化池10、给所述氧化池10提供臭氧的臭氧单元20、增强臭氧与废液混合效果的混合装置30。
所述氧化池10设有供废液分别流入、流出氧化池的进水口11、出水口12,所述混合装置30中部分增强气液混合效果的结构位于所述进水口11与所述出水口12之间。废水等废液从进水口11进入氧化池10,与臭氧单元20提供的臭氧混合并进行充分反应,除去或降低有机物等污染物后从出水口12流出,待排放或循环利用。于其中一个实施例中,所述进水口11位于所述氧化池10的底部,所述出水口12高于所述进水口11。
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