[实用新型]实验室用水浴温控式渡槽

说明书

技术领域

本实用新型涉及电镀技术领域，尤其是能控制温度和电镀电极面积及距离的电渡槽装置。

背景技术

电镀是指在含有预镀金属的盐类溶液中，以被镀基体金属为阴极，通过电解作用，使镀液中预镀金属的阳离子在基体金属表面沉积出来，形成镀层的一种表面加工方法。一般的实验室用电镀槽装置仅仅提供电渡槽和夹持电极，但是在某些情况下对电镀温度是有要求的，为此还需要额外添加水浴锅等保温设备，不仅不利于操作，也使成本增加。同时，电镀工艺通常会规定电极间的距离及电极的相对面积，一般的实验室用电镀槽装置没有可靠的机械装置来限定这些参数，对电镀结果产生不利影响。

发明内容

为了克服现有的实验室用电镀槽装置不能控制温度和电镀面积及距离的不足,本实用新型提供一种实验室用水浴温控式渡槽，该电镀槽不仅能控制电镀温度，而且能方便地调节电极间的距离及电极的正对面积。

本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是：实验室用水浴温控式渡槽，主要由电渡槽、水平滑块、调节伸杆和垂直滑块组成。电镀槽为水浴加热式渡槽，通过控制面板可以设定加热温度和加热时间。水平滑块安装在电镀槽的水平导轨上，水平导轨表面带有刻度，根据刻度可以调节水平滑块间的距离，从而控制电极间的距离。调节伸杆的一端通过销孔与水平导轨连接可实现90°的旋转，垂直滑块安装在调节伸杆带有垂直导轨的另一端，垂直导轨上带有刻度用来调节垂直滑块的高度，以此控制电极间的相对面积。

本实用新型的有益效果是，在电镀过程中能满足对温度控制的要求，同时可以方便可靠地调节电极间的距离及相对面积，减少人为操作对电镀结果的不利影响。

附图说明

图1是实验室用水浴温控式渡槽示意图。

图2是实验室用水浴温控式渡槽的电镀槽示意图。

图3是实验室用水浴温控式渡槽的调节伸杆和垂直滑块示意图。

图中，1.电镀槽，2.水平滑块，3.调节伸杆，4.垂直滑块，5.渡槽，6.控制面板，7.水平导轨，8.水平导轨面刻度，9.垂直导轨面刻度，10.夹持装置，11.垂直导轨，12.销孔。

具体实施方式

下面结合实施例对本发明做进一步的说明，参考图1、2和3，实验室用水浴温控式渡槽包括：电镀槽(1)、水平滑块(2)、调节伸杆(3)和垂直滑块(4)。水平滑块(2)安装在电镀槽(1)的水平导轨(7)上，水平滑块(2)根据水平导轨面刻度(9)来调节距离从而控制电极间的距离。调节伸杆(3)的一端用销孔(12)与水平滑块(2)连接，可实现90°旋转方便操作。垂直滑块(4)带有夹持装置(10)用于夹持电极，垂直滑块(4)安装在调节伸杆(3)带有垂直导轨(11)的一端，通过垂直导轨面刻度(9)来调节电极的高度进而控制电极间的相对面积。电镀槽(1)可水浴加热，由控制面板(6)来调节电镀的温度。