[实用新型]高清显示用旋转硅靶

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种靶材，尤其是一种高清显示用旋转硅靶。

背景技术

磁控溅射靶材是通过磁控溅射镀膜系统在适当工艺条件下溅射在基板上形成各种功能薄膜的溅射源。

高端智能型电容式触摸屏在生产过程中需要用氧化硅来作玻璃和其他功能膜层之间的过渡层，来增加两者之间的结合力，并且需要氧化铌层和氧化钛层配合来作消影层。目前普遍采用的生产工艺是用真空磁控溅射镀膜设备，分别用硅靶材和氧化铌靶材来在触摸屏玻璃上镀膜。由于纯硅的导电性很差， 溅射困难，导致生产效率低下。纯氧化铌也基本不导电，溅射起来更加困难。为了增加硅靶材的导电性，有些厂家采用低纯度的硅粉做原料，含铁和铝等杂质元素较多，甚至还有一些厂家人为的向原料硅粉里面混入一定量的铝粉。这样做虽然增加了导电性，但是其大量含有的杂质会影响膜层的颜色，还会造成膜层不均匀，甚至产生花斑使产品报废。

发明内容

本实用新型的目的是克服现有技术中存在的不足，提供一种高清显示用旋转硅靶，增加了不锈钢背管和硅铌混合层之间的结合强度，电阻率低、纯度高，可以提高镀膜生产效率和镀膜质量。

按照本实用新型提供的技术方案，一种高清显示用旋转硅靶，特征是：包括304不锈钢背管，在304不锈钢背管表面喷涂有打底层，在打底层上喷涂有硅铌混合层。

进一步的，所述301不锈钢背管的两端分别设有密封面和接头。

进一步的，所述打底层为镍铝打底层，厚度为0.1～1毫米。

进一步的，所述硅铌混合层的厚度为2～13毫米。

进一步的，所述硅铌混合层中铌含量为0.01%～20%。

本实用新型能起到消影作用，省却了昂贵的氧化铌膜层，减少了生产环节，提高了生产效率，降低了产品的成本，节约了能源；并且通过打底层增加了不锈钢背管和硅铌混合层之间的结合强度。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图。

图2为图1的局部放大图。

具体实施方式

下面结合具体附图对本实用新型作进一步说明。

如图1～图2所示：所述高清显示用旋转硅靶包括304不锈钢背管1、打底层2、硅铌混合层3、密封面4、接头5等。

如图1所示，本实用新型包括304不锈钢背管1，在304不锈钢背管1表面喷涂有打底层2，在打底层2上喷涂有硅铌混合层3。

如图2所示，所述301不锈钢背管1的两端分别设有密封面4和接头5，方便和生产设备连接，304不锈钢背管1内部在使用时通冷却水，使其温度不致过高。

所述304不锈钢背管1采用不锈钢材质，价格低廉，既不会生锈，也没有磁性，不会影响到使用时放置在其内部的磁铁的磁场影响。

所述打底层2为镍铝打底层，厚度为0.1～1毫米，用来增加304不锈钢背管1和硅铌混合层3之间的结合强度。

所述硅铌混合层3的厚度为2～13毫米，为镀膜材料，其中铌含量为0.01%～20%。

本实用新型由高纯度的硅粉和高纯度的铌均匀混合而成，再经过低压等离子喷涂制成靶材。本实用新型所述旋转硅靶导电性好，容易溅射镀膜，并且纯度极高，使膜层均匀，颜色纯正。更重要的是，能把过渡层和消影层合二为一，既减少了生产环节，提高了生产效率，又减小了膜层厚度，提高了触摸屏的一项重要技术指标——光透过率。