[实用新型]一种磁悬浮感应熔炼水冷铜坩埚有效
| 申请号: | 201520080290.5 | 申请日: | 2015-02-04 |
| 公开(公告)号: | CN204438769U | 公开(公告)日: | 2015-07-01 |
| 发明(设计)人: | 王雷;杨森;王练群 | 申请(专利权)人: | 涿州凯莱金属材料有限公司 |
| 主分类号: | F27B14/10 | 分类号: | F27B14/10;F27D9/00 |
| 代理公司: | 北京孚睿湾知识产权代理事务所(普通合伙) 11474 | 代理人: | 刘岩 |
| 地址: | 072750 *** | 国省代码: | 河北;13 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 磁悬浮 感应 熔炼 水冷 坩埚 | ||
技术领域
本实用新型涉及一种磁悬浮感应熔炼水冷铜坩埚,属于高纯高温材料的磁感应熔炼技术领域。
背景技术
悬浮熔炼技术是上世纪末出现的,又被称为冷坩埚真空感应熔炼技术。它是用紫铜坩埚代替陶瓷材料坩埚,并通过电磁场使熔融的材料在熔炼过程中处于悬浮状态,从而排除坩埚对熔炼材料的污染。因此,冷坩埚磁悬浮熔炼是制备高熔、高纯、活泼或放射性材料的有效方法。
通常人们会将冷坩埚壁分瓣,以提高坩埚的磁力线穿透性,使其涡流损耗降低,如图1所示。一般来讲,分瓣越多,坩埚壁形成的狭缝越多,坩埚体的磁力线穿透性越高,其涡流损耗越低。常见的分瓣瓣数有4瓣、8瓣、16瓣、24瓣。
然而,随着坩埚壁分瓣瓣数增多,坩埚每一瓣的宽度越窄,当在每一瓣中穿设冷却水的进水管和出水管时,需要相应增加坩埚壁厚以使分瓣内有足够的容纳水管的空间。这带来了一个问题就是,坩埚壁厚增加,制作坩埚所需的材料增加,坩埚壁的磁力线穿透性减弱,同时冷却水进出水管的管径小,在工作过程中容易出现冷却水阻塞,造成坩埚壁局部过热而烧损。也有的坩埚在分瓣内仅设置一根水管,同时兼作进水管和出水管,这种方案下冷却水的冷却效率非常低,也容易造成坩埚壁局部过热而烧损。
此外,由于在坩埚中各区域的磁场强度不同,例如一般来讲坩埚底部的磁场强度较弱,容易在坩埚底部出现合金料过多的残留,这种残留不易清理而且容易造成坩埚底部的局部损伤,由于坩埚体通常底和壁一体形成,任何一个部位出现损伤就需要进行整体更换,造成维护成本的增加。
另外,由于现有的坩埚通常将水套设置在坩埚底部,所以水套会严重阻碍磁力线从坩埚底部进入坩埚,而且水套本身也会吸收大量涡流,将磁场能转变成热能而使水套中的冷却水变热,从而引起坩埚冷却不足的问题。
发明内容
本实用新型的目的在于克服上述现有技术中的不足,提供一种磁悬浮感应熔炼水冷铜坩埚,提高坩埚内部各区域的磁场强度,改善坩埚侧壁和底壁的冷却效果,降低坩埚壁厚度,降低坩埚体材料的用量,在坩埚出现局部烧损时需要更换的坩埚材料较少,降低生产设备的维护成本。
为了实现上述目的,本实用新型提供一种磁悬浮感应熔炼水冷铜坩埚,包括坩埚体和水套,所述坩埚体包括呈圆筒形的侧壁总成和从侧壁总成底部插入的呈圆形的底壁总成,所述侧壁总成和所述底壁总成借助于冷却水铜管分别固定在所述水套上并分别与所述水套形成冷却水回路,所述侧壁总成套在所述底壁总成外侧面上且二者之间通过间隙配合共同构成容纳原料的熔炼腔,侧壁总成沿周向均匀分为12个侧壁瓣,相邻侧壁瓣之间形成纵向的可供外部磁力线穿入的第一狭缝,每个侧壁瓣沿纵向中心线形成第二狭缝,第二狭缝的上端开始于侧壁瓣的上端,下端结束于距离侧壁瓣底端一段距离处,并可供外部磁力线穿入,底壁总成沿周向均匀分为6个底壁瓣,相邻底壁瓣之间形成沿径向的可供外部磁力线穿入的第三狭缝,每个第三狭缝与相应位置的第一狭缝对齐。
优选地,所述每个侧壁瓣内部沿纵向设置两个冷却水孔,两个冷却水孔分布在第二狭缝两侧并在侧壁瓣内部第二狭缝顶端与侧壁瓣顶端之间的位置相互连通,冷却水孔底端通过冷却水铜管与水套连接。
优选地,所述每个底壁瓣具有一定厚度,内部设置水腔,每个底壁瓣的底壁开设一个出水口一个进水口,出水口和进水口中分别插入冷却水铜管,使得底壁瓣的水腔通过冷却铜管与水套连接。
优选地,所述冷却水铜管穿过一水平设置的绝缘板后与水套连接,所述绝缘板的面积略大于坩埚体的外径所形成的圆周面积。
优选地,所述坩埚侧壁总成的外表面上设置水平的绝缘定位板,所述绝缘定位板用于支撑和紧箍所述侧壁总成。
优选地,所述第二狭缝的长度为侧壁瓣总长的7/8。
优选地,所述每条狭缝内夹设绝缘片。
优选地,所述绝缘片为云母片或碳化硼。
优选地,所述底壁总成的上表面形成为适于磁悬浮熔炼的平面或为中心低周边高的锥形斜面。
优选地,所述底壁总成的上表面由位于中心区域的平面和围绕中心区域的中间低周边高的锥形斜面组成。
本实用新型采用分瓣结构,坩埚体侧壁共有24条狭缝,底壁有6条狭缝,密集分布的狭缝有利于提高坩埚内部的磁场强度,特别是在底壁也设置狭缝,能够有效地增加坩埚内底部区域的磁场强度,减少熔料与坩埚底部的接触,减少底部残留。
附图说明
下面列出了现有技术及本实用新型实施例的相关附图,其中
图1为现有技术中的坩埚体;
图2为本实用新型实施例的水冷铜坩埚整体示意图;
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