[实用新型]双面镭雕机

权利要求书

1.一种双面镭雕机，其特征在于包括设置在机架上用于传送待镭雕物的两组平行间隔设置的间隔距离可调的皮带传送装置；在所述皮带传送装置上下方的所述机架上分别设置有可位移的上镭雕装置和下镭雕装置，所述上镭雕装置和所述下镭雕装置的镭雕面分别朝向所述皮带传送装置。

2.根据权利要求1所述的双面镭雕机，其特征在于两组所述皮带传送装置分别安装在两组独立的平行间隔设置的安装基板上，其中一安装基板固定在所述机架上，另一安装基板的两端分别螺设在位于所述安装基板两端平行设置的丝杆上，所述丝杆固定在所述机架上。

3.根据权利要求2所述的双面镭雕机，其特征在于在所述皮带传送装置上设置有夹紧装置。

4.根据权利要求1所述的双面镭雕机，其特征在于在所述皮带传送装置的上方和下方的机架上两侧分别平行间隔设置有两滑轨，在所述滑轨上分别横跨滑设有一横梁，所述上镭雕装置安装在位于所述皮带传送装置上方的上横梁上，所述下镭雕装置安装在位于所述皮带传送装置下方的下横梁上。

5.根据权利要求4所述的双面镭雕机，其特征在于在所述上横梁和下横梁上分别设置丝杆，所述上镭雕装置和所述下镭雕装置分别滑设安装在所述上横梁和所述下横梁的所述丝杆上。

6.根据权利要求5所述的双面镭雕机，其特征在于在所述上横梁和所述下横梁上的所述丝杆的两侧平行设置有两滑轨，所述上镭雕装置和所述下镭雕装置分别滑设在所述两滑轨上。