[发明专利]一种全自动表面处理机

权利要求书

1.一种全自动表面处理机，其特征在于，包括：

设备平台；

设置于所述设备平台上的样品支架、样品等离子清洗台、样品旋涂台、及样品下料机构；

用于对载置于所述样品等离子清洗台上的样品进行清洗的等离子清洗机构；

用于对载置于所述样品旋涂台上的样品进行旋涂表面处理的旋涂滴胶机构；和

配置为将载置于所述样品支架上的样品依次输送至所述样品等离子清洗台、样品旋涂台、及样品下料机构的机械手。

2.根据权利要求1所述的全自动表面处理机，其特征在于，所述样品支架的数量为一个或多个。

3.根据权利要求1或2所述的全自动表面处理机，其特征在于，所述样品等离子清洗台在水平方向移动，且所述样品等离子清洗台的中央设有用于吸附所述样品的真空吸孔。

4.根据权利要求3所述的全自动表面处理机，其特征在于，所述等离子清洗机构包括等离子枪、等离子枪水平支架和等离子枪垂直支架；所述等离子枪水平支架通过伸缩方式使所述等离子枪在水平方向移动；所述等离子枪的移动方向与所述样品等离子清洗台的移动方向垂直。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的全自动表面处理机，其特征在于，所述样品旋涂台通过其中央的真空吸孔将样品吸牢后，带动所述样品绕所述样品旋涂台的垂直方向的轴旋转。

6.根据权利要求5所述的全自动表面处理机，其特征在于，所述旋涂滴胶机构包括滴胶头、滴胶头水平支架和滴胶头垂直支架；所述滴胶头水平支架通过伸缩方式使所述滴胶头在水平方向移动；所述滴胶头垂直支架沿垂直方向伸缩。

7.根据权利要求1至6中任一项所述的全自动表面处理机，其特征在于，所述样品下料机构包括下料台和安装于所述下料台上的传送带。

8.根据权利要求1至7中任一项所述的全自动表面处理机，其特征在于，所述机械手包括机械手抓头、机械手抓头水平支架和机械手抓头垂直支架，所述机械手抓头水平支架通过伸缩方式使所述机械手沿水平方向移动；所述机械手垂直支架绕其自身垂直方向的轴旋转，并沿垂直方向伸缩。