[发明专利]一种用于OCA光学胶的离型膜及其制备方法

说明书

本发明涉及离型膜技术领域，具体涉及一种用于OCA光学胶的离型膜及其制备方法，包括基材层和贴合于基材层上表面的离型层，离型层由离型剂经涂布制得，所述离型剂包括如下重量份的原料：聚合物100份、交联剂1‑5份、催化剂0.1‑0.5份和溶剂500‑4000份。本发明的离型层通过采用上述原料，并严格控制各原料的重量配比，得到的离型层厚度为0.1‑0.6μm，残余接着力可以达到90%以上，初始离型力平稳，膜面公差范围在±1%以内。

技术领域

本发明涉及离型膜技术领域，具体涉及一种用于OCA光学胶的离型膜及其制备方法。

背景技术

目前国内离型膜生产厂家虽多，但因离型膜涉及行业很多，质量要求差距很大，中国大部分厂家多采用普通涂布机在一般工作车间进行生产，过程中存在大量有机溶剂挥发、树脂交联度低及脏污多的问题，其产品应用在要求不高的包装及防水领域。

光学级产品所用的高端离型膜需要在千级或万级无尘车间生产，对涂布设备要求精确度高，对环保认证严格，进入门槛较高。应用于屏内的OCA光学胶对离型膜的要求比传统离型膜更为苛刻，它不仅需要其表面平整度高，而且要保证其初始离型力与老化离型力差别不大、膜面公差小、残余接着力大等诸多要求。

发明内容

为了克服现有技术中存在的缺点和不足，本发明的目的在于提供一种用于OCA光学胶的离型膜，该离型膜的离型层厚度小，残余接着力高，初始离型力平稳，膜面公差范围小。

本发明的另一目的在于提供一种用于OCA光学胶的离型膜的制备方法，该制备方法工艺简单，操作控制方便，质量稳定，生产效率高，生产成本低，适合大规模工业化生产。

本发明的目的通过下述技术方案实现：一种用于OCA光学胶的离型膜，包括基材层和贴合于基材层上表面的离型层，离型层由离型剂经涂布制得，所述离型剂包括如下重量份的原料：

聚合物 100份

交联剂 1-5份

催化剂 0.1-0.5份

溶剂 500-4000份。

本发明的离型层通过采用上述原料，并严格控制各原料的重量配比，得到的离型层厚度为0.1-0.6μm，残余接着力可以达到90%以上，初始离型力平稳，膜面公差范围在±1%以内。

优选的，所述基材层的厚度为20-150μm；所述离型层的厚度为0.1-0.7μm。

优选的，所述基材层为透光率大于90%的PET薄膜、PEN薄膜、PC薄膜、PP薄膜、PVC薄膜和PE膜中的任意一种。本发明的基材层通过采用上述薄膜，其透光效果好。更为优选的，所述基材层为透光率大于90%的PET薄膜。

优选的，所述聚合物为聚硅氧烷、丙烯酸酯改性有机硅树脂和硅酮中的至少一种。本发明通过采用上述聚合物，得到的离型层厚度小，残余接着力高，初始离型力平稳，膜面公差范围小。更为优选的，所述聚合物是由聚硅氧烷、丙烯酸酯改性有机硅树脂和硅酮以重量比0.8-1.2:1.4-2.2：1组成的混合物。

优选的，所述交联剂为甲基甲氧基硅氧烷、N-2-(氨乙基)-3氨丙基甲基二甲氧基硅烷和乙烯基三乙氧基硅烷中的至少一种。本发明通过采用上述交联剂，其交联效果好，得到的离型层厚度小，残余接着力高，初始离型力平稳，膜面公差范围小。更为优选的，所述交联剂是由甲基甲氧基硅氧烷、N-2-(氨乙基)-3氨丙基甲基二甲氧基硅烷和乙烯基三乙氧基硅烷以重量比1:0.5-1.5:1.5-2.5组成的混合物。