[发明专利]氢气自动供应集成控制系统

权利要求书

1.一种应用于半导体外延工艺的氢气自动供应集成控制系统，其特征在于，包括制氢设备、一级纯化设备、缓冲罐、二级纯化设备、氢气压缩机、汇流排钢瓶组和减压稳流装置，所述制氢设备产出的氢气经一级纯化设备进入缓冲罐，再经二级纯化设备输出；制氢设备产出的多余氢气经一级纯化设备进入氢气压缩机，经氢气压缩机压缩后储存至汇流排钢瓶组；汇流排钢瓶组中储存的氢气经减压稳流装置的减压后进入缓冲罐，再经二级纯化设备输出；

还包括氢气压力控制系统，所述氢气压力控制系统包括上位机和多个控制单元，每个控制单元分别与上位机相连，所述控制单元包括压力变送器和气动阀，一级纯化设备与缓冲罐之间、一级纯化设备与氢气压缩机之间以及减压稳流装置与缓冲罐之间均设有控制单元。

2.根据权利要求1所述的氢气自动供应集成控制系统，其特征在于，上位机中预设每个气动阀联动的压力数值，各压力变送器将收集到的实时氢气压力参数传输至上位机，上位机根据实时氢气压力参数控制各气动阀的开闭。

3.根据权利要求1所述的氢气自动供应集成控制系统，其特征在于，所述制氢设备为水电解槽。