[发明专利]一种光滤波器幅频响应的测量方法

权利要求书

1.一种双移频外差结构，其特征在于：包括外移频外差仪、内移频外差仪；

外移频外差仪包括分束器Ⅰ(21)和合束器Ⅰ(24)，外移频外差仪的一个臂上设置有声光 移频器Ⅰ(71)；外移频外差仪的另一个臂上设置依次级联的偏振控制器(3)、电光调制器 和(4)内移频外差仪；

内移频外差仪包括分束器Ⅱ(22)和合束器Ⅱ(23)；内移频外差仪的两个臂上分别设置有 待测滤波器(6)和声光移频器Ⅱ(72)。

2.采用如权利要求1所述的一种双移频外差结构测量光滤波器幅频响应的方法，其特征在于， 包括以下步骤：

步骤1、设置可调激光光源(1)输出光波的频率为f₀，在电光调制器(4)的电极上加载频 率为f_m的正弦信号，声光移频器Ⅰ(71)的电极上加载频率为f₁的正弦信号，声光移频器 Ⅱ(72)的电极上加载频率为f₂的正弦信号；

步骤2、通过光电探测器(8)和数据采集链路记录在步骤1中的外移频外差仪的输出信号， 记录频率为f_m-f₁、f_m+f₁、f_m-f₁+f₂、f_m+f₁-f₂的功率值，分别记为I(f_m-f₁)、I(f_m+f₁)、I(f_m-f₁+f₂)、 I(f_m+f₁-f₂)；

步骤3、按照如下公式可以得到待测光滤波器的幅频响应值，和 其中公式的分母中±的选择取决于其频率更靠近分子项中的频 率；

步骤4、通过改变加载在电光调制器(4)电极上的微波信号频率f_m的大小，重复步骤1、2、 3，从而得到待测光滤波器相对于光载波f₀不同频率f_m的幅频响应。

3.根据权利要求书2所述的一种双移频外差结构测量光滤波器幅频响应的方法，其特征在 于：电光调制器为电光强度调制器或者电光相位调制器。

4.根据权利要求书2所述的一种双移频外差结构测量光滤波器幅频响应的方法，其特征在 于：声光移频器Ⅰ的电极上加载的信号频率f₁与声光移频器Ⅱ的电极上加载的信号频率f₂， 满足f₂≈2f₁或者f₂≈0。

5.根据权利要求书2所述的一种双移频外差结构测量光滤波器幅频响应的方法，其特征在于： 步骤3公式的分母中±的选择取决于其频率更靠近分子项中的频率。