[发明专利]易清洗的反应釜

说明书

技术领域

本发明属于具有内部移动元件的固定式反应器，尤其涉及一种易清洗的反应釜。

背景技术

反应釜即为化学反应或物理反应的容器，通过对反应釜的结构设计和参数配置，可实现工艺要求的加热、蒸发、冷却等功能。反应釜广泛应用于石油、化工、医药及冶金等领域，反应釜的材质一般有碳猛钢、不锈钢、镍基合金及其它复合材料等。反应釜内的反应时间持续较长后，反应釜的内壁上会形成一层结晶层，所述结晶层若不进行清洗，将可能会影响下一轮不同反应物之间的反应的顺利进行，因此操作人员需要时常对反应釜进行清洗。然而，现有的反应釜通常为一个一体成型的容器，且所述一体成型的容器的体积通常比较大，而为了反应物不溅出至反应釜外伤害旁人或保证反应釜内的气压环境的原因，反应釜上通常只设一个较小的开口，而反应釜较大的体积及其较小的开口通常会导致清洗困难。

因此，急需一种清洗方便的反应釜。

发明内容

本发明的目的在提供一种易清洗的反应釜。

为了达到上述目的，本发明的基础方案为：易清洗的反应釜，包括反应釜本体、搅拌轴，所述搅拌轴同轴设置在反应釜本体内，其中，还包括滑块、定位销和清洗单元，所述滑块与搅拌轴滑动连接，所述搅拌轴和滑块上均设有与定位销相匹配的定位孔，所述清洗单元包括刮块、第一支杆和第二支杆，所述第一支杆的一端铰接在搅拌轴的下部，另一端铰接在清洗块上，所述第二支杆的一端铰接在滑块上，另一端铰接在清洗块上。

本基础方案的原理在于：反应釜正常工作时，定位销插入定位孔中，将滑块固定，此时，刮块与反应釜本体的内壁未接触，主要起搅拌的作用。当反应釜需要清洗时，向下移动滑块。此时，在滑块、第一支杆、第二支杆的协同作用下，刮块向外移动，与反应釜本体的内壁接触，定位销锁紧滑块后，转动搅拌轴，即可将粘在反应釜本体的内壁的结晶层刮除，达到清洗的目的。

本基础方案的有益效果在于：与传统的反应釜相比，本方案中的清洗单元，一方面，清洗单元在反应釜正常工作时，可随着搅拌轴一起转动，能使反应釜内溶液的混合程度更加均匀；另一方面，当反应釜本体反应完毕后，调整滑块的位置，在搅拌轴转动的同时，即可使刮块对反应釜本体的内壁进行清洗，操作方便。

方案二：此为基础方案的优选，所述清洗单元的数量为多个，且以搅拌轴中心对称。相对于单个清洗单元，清洗的效果更好。同时，清洗单元沿搅拌轴中心对称设置，各个清洗单元之间受力均匀，稳定性更好。

方案三：此为方案二的优选，所述滑块为不锈钢滑块。不锈钢滑块不易生锈，且具有良好的耐酸、耐碱性，使用寿命高。

方案四：此为基础方案至方案三中任一项方案的优选，所述滑块为空心滑块。空心滑块的重量较低，转动搅拌轴时的负荷较小。

方案五：此为方案四的优选，所述搅拌轴为不锈钢搅拌轴。不锈钢不易生锈，且具有良好的耐酸、耐碱性，使用寿命高。

附图说明

图1是本发明易清洗的反应釜实施例的结构示意图。

具体实施方式

下面通过具体实施方式对本发明作进一步详细的说明：

说明书附图中的附图标记包括：反应釜本体10、进水口101、出水口103、电机20、搅拌轴30、滑块40、定位孔401、清洗块51、第一支杆51、第二支杆52。

如图1所示，易清洗的反应釜，包括反应釜本体10、搅拌轴30、滑块40、定位销和清洗单元。反应釜本体10上设有进水口101和出水口103，搅拌轴30同轴安装在反应釜本体10内。滑块40为中空的滑块40，搅拌轴30插入滑块40中，并与滑块40滑动连接。搅拌轴30和滑块40上均设有与定位销相匹配的定位孔401，定位销插入定位孔401中即可将滑块40固定。清洗单元包括刮块、第一支杆51和第二支杆52。第一支杆51的一端铰接在搅拌轴的下部，另一端焊接在清洗块51上，第二支杆52的一端铰接在滑块40上，另一端铰接在第一支杆51上。

另外，本方案中，清洗单元的数量为2个，且以搅拌轴30对称。相对于单个清洗单元，清洗的效果更好。同时，清洗单元沿搅拌轴30中心对称设置，各个清洗单元之间受力均匀，稳定性更好。不锈钢清洗单元中的刮块、第一支杆51和第二支杆52均为不锈钢制成，滑块40也为不锈钢制成，不锈钢不易生锈，且具有良好的耐酸、耐碱性，使用寿命高。