[发明专利]光学成像系统在审

专利信息
申请号: 201510716086.2 申请日: 2015-10-29
公开(公告)号: CN105676416A 公开(公告)日: 2016-06-15
发明(设计)人: 廖国裕;刘燿维;张永明 申请(专利权)人: 先进光电科技股份有限公司
主分类号: G02B13/00 分类号: G02B13/00;G02B13/18
代理公司: 北京科龙寰宇知识产权代理有限责任公司 11139 代理人: 孙皓晨
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 光学 成像 系统
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种光学成像系统,且特别是有关于一种应用于电子产品上的小型光 学成像系统。

背景技术

近年来,随着具有摄影功能的可携式电子产品的兴起,光学系统的需求日渐增加。 一般光学系统的感光元件不外乎为感光耦合元件(ChargeCoupledDevice;CCD)或互补性 氧化金属半导体元件(ComplementaryMetal-OxideSemiconduTPorSensor;CMOS Sensor)两种,且随着半导体制造技术的进步,使得感光元件的像素尺寸缩小,光学系统逐 渐往高像素方向发展,因此对成像质量的要求也日益增加。

传统搭载于便携设备上的光学系统,多采用两片式透镜结构,然而,由于便携设备 不断朝像素提升方向发展,并且终端消费者对大光圈的需求不断增加,例如微光与夜拍功 能,以及消费者对广视角的需求也逐渐增加,例如前置镜头的自拍功能。但是,设计大光圈 的光学系统常面临产生更多像差致使周边成像质量随之劣化以及制造困难,而设计广视角 的光学系统则面临成像的畸变率(distortion)提高,现有的光学成像系统已无法满足更高 阶的摄影要求。

因此,如何有效增加光学成像镜头的进光量与增加光学成像镜头的视角,除了进 一步提高成像的总像素与质量外,同时能兼顾微型化光学成像镜头的衡平设计,便成为一 个相当重要的议题。

发明内容

本发明针对一种光学成像系统及光学影像撷取镜头,能够利用三个透镜的屈光 力、凸面与凹面的组合(本发明所述凸面或凹面原则上指各透镜的物侧面或像侧面于光轴 上的几何形状描述),进而有效提高光学成像系统的进光量与增加光学成像镜头的视角,同 时提高成像的总像素与质量,以应用于小型的电子产品上。

本发明实施例相关的透镜参数的用语与其代号详列如下,作为后续描述的参考:

与长度或高度有关的透镜参数:

光学成像系统的成像高度以HOI表示;光学成像系统的高度以HOS表示;光学成像 系统中的第一透镜物侧面至第三透镜像侧面间的距离以InTL表示;光学成像系统中的第三 透镜像侧面至成像面间的距离以InB表示;InTL+InB=HOS;光学成像系统中的固定光栏(光 圈)至成像面间的距离以InS表示;光学成像系统中的第一透镜与第二透镜间的距离以IN12 表示(例示);光学成像系统中的第一透镜于光轴上的厚度以TP1表示(例示)。

与材料有关的透镜参数:

光学成像系统的第一透镜的色散系数以NA1表示(例示);第一透镜的折射律以Nd1 表示(例示)。

与视角有关的透镜参数:

视角以AF表示;视角的一半以HAF表示;主光线角度以MRA表示。

与出入瞳有关的透镜参数:

光学成像系统的入射瞳直径以HEP表示。

与透镜面形深度有关的参数:

第三透镜物侧面于光轴上的交点至第三透镜物侧面的最大有效径位置于光轴的 水平位移距离以InRS31表示(例示);第三透镜像侧面于光轴上的交点至第三透镜像侧面的 最大有效径位置于光轴的水平位移距离以InRS32表示(例示)。

与透镜面型有关的参数:

临界点C指特定透镜表面上,除与光轴的交点外,一与光轴相垂直的切面相切的 点。承上,例如第二透镜物侧面的临界点C21与光轴的垂直距离为HVT21(例示),第二透镜像 侧面的临界点C22与光轴的垂直距离为HVT22(例示),第三透镜物侧面的临界点C31与光轴 的垂直距离为HVT31(例示),第三透镜像侧面的临界点C32与光轴的垂直距离为HVT32(例 示)。第三透镜物侧面上最接近光轴的反曲点为IF311,该点沉陷量SGI311,该点与光轴间的 垂直距离为HIF311(例示)。第三透镜像侧面上最接近光轴的反曲点为IF321,该点沉陷量 SGI321(例示),该点与光轴间的垂直距离为HIF321(例示)。第三透镜物侧面上第二接近光 轴的反曲点为IF312,该点沉陷量SGI312(例示),该点与光轴间的垂直距离为HIF312(例 示)。第三透镜像侧面上第二接近光轴的反曲点为IF322,该点沉陷量SGI322(例示),该点与 光轴间的垂直距离为HIF322(例示)。

与像差有关的变数:

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