[发明专利]光照射装置及光固化材料处理装置有效
申请号: | 201510592128.6 | 申请日: | 2015-09-17 |
公开(公告)号: | CN105465679B | 公开(公告)日: | 2019-08-16 |
发明(设计)人: | 井上隆博 | 申请(专利权)人: | 优志旺电机株式会社 |
主分类号: | B41J2/01 | 分类号: | B41J2/01;B41J11/00;B29C64/264;B29C64/20 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 胡建新;朴勇 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 照射 装置 光固化 材料 处理 | ||
1.一种光照射装置,具备具有多个发光元件的光源部,其特征在于,
在假设将沿着铅垂方向延伸的轴设为Z轴的XYZ三维正交坐标系时,上述光源部由上述多个发光元件在同一平面上以发光面的中心位于X轴上的方式排列配置而构成,
将包含上述多个发光元件的发光面的中心的XZ平面设为基准面,相对于该基准面在Y轴负方向侧的位置,在X轴方向上延伸设置有第一反射部,并且相对于该基准面在Y轴正方向侧的位置,在X轴方向上延伸设置有第二反射部,上述第一反射部具有使来自上述光源部的光指向Y轴正方向、且遮断指向Y轴负方向的光的功能,上述第一反射部处于该第一反射部的反射面的下端缘比上述基准面向Y轴正方向突出的状态,上述第二反射部具有对来自上述光源部的光及来自上述第一反射部的光进行反射以指向Y轴正方向的功能。
2.根据权利要求1所述的光照射装置,其特征在于,
上述第一反射部的反射面及第二反射部的反射面均倾斜成,随着朝向远离上述光源部的方向即Z轴负方向而向Y轴正方向位移,
将上述第一反射部的反射面相对于上述基准面的倾斜角度设为α,将上述第二反射部的反射面相对于上述基准面的倾斜角度设为β,将上述多个发光元件各自的最大射出角度设为θmax时,满足
(式1)β≥α+θmax/2
(式2)45°≤β≤90°的关系。
3.一种光固化材料处理装置,其特征在于,具备:
具有喷出光固化材料的喷出部的喷头部;以及
权利要求1或权利要求2所述的光照射装置,
该光照射装置中,上述第一反射部与上述喷头部侧相邻地配置。
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