[发明专利]图像处理方法、摄像装置以及图像处理装置有效

专利信息
申请号: 201510587511.2 申请日: 2015-09-15
公开(公告)号: CN105430310B 公开(公告)日: 2020-10-27
发明(设计)人: 鬼木崇;畠山弘至 申请(专利权)人: 佳能株式会社
主分类号: H04N5/74 分类号: H04N5/74;H04N9/31;G06T5/00
代理公司: 北京怡丰知识产权代理有限公司 11293 代理人: 迟军
地址: 日本东京都*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 图像 处理 方法 摄像 装置 以及
【说明书】:

发明提供了一种图像处理方法、摄像装置以及图像处理装置。一种非暂时性计算机可读存储介质存储有使计算机执行图像处理方法的图像处理程序,所述图像处理方法包括以下步骤:获取步骤,获取经由光学系统的摄像生成的输入图像;生成步骤,通过使用与对应于所述光学系统的摄像条件的点扩展函数近似的函数的系数数据,来生成点扩展函数;以及提供步骤,使用基于通过使用所述系数数据生成的所述点扩展函数的信息而生成的过滤器,对所述输入图像提供反锐化掩模处理。所述过滤器是具有二维数据的过滤器。

技术领域

本发明涉及图像锐化处理。

背景技术

已知反锐化掩模处理将原始图像与如下差分相加或相减来使图像锐化,所述差分是通过对原始图像应用反锐化掩模获得的模糊图像与原始图像之间的差分。在模糊图像与输入图像之间的差分大时使图像更锐化。日本特开2010-81263号公报公开了以下方法:通过对在像高方向上排列的像素信号应用非对称的一维过滤器,来降低光学系统的点扩展函数(point spread function,(PSF))的影响。

当采用旋转对称过滤器作为反锐化掩模时,难以使由于PSF的复杂形状(例如,非对称像差和矢状光环)的影响而劣化的图像锐化。具体而言,在具有大像差的方位角方向上的像差的校正引起在具有小像差的方位角方向上的下冲(undershoot),而下冲的抑制导致像差的不充分校正。

日本特开2010-81263号公报的方法考虑仅在像高方向上的非对称性,并且校正过滤器是一维的,因此无法改善像高方向以外的方向上的非对称性。像高方向是子午线的方位角方向。此外,因为通过调整负抽头系数的个数来调整过滤器的非对称性,并且关于像高方向的校正,过滤器引起了与由光学系统的PSF引起的模糊不同的模糊,所以通过传统的方法无法实现充分的锐化。

发明内容

本发明提供了各自能够降低生成校正信号所需的记录数据量并具有优良的锐化效果的图像处理装置、摄像装置、图像处理方法以及存储图像处理程序的非暂时性计算机可读存储介质。

本发明的一方面提供了一种图像处理方法,所述图像处理方法包括:获取步骤,获取经由光学系统的摄像生成的输入图像;生成步骤,通过使用与对应于所述光学系统的摄像条件的点扩展函数近似的函数的系数数据,来生成点扩展函数;以及提供步骤,使用基于通过使用所述系数数据生成的所述点扩展函数的信息而生成的过滤器,对所述输入图像提供反锐化掩模处理。所述过滤器具有二维数据。

通过以下参照附图对示例性实施例的描述,本发明其他的特征和方面将变得清楚。

附图说明

图1是根据本发明的实施例1、实施例2和实施例3中的各个的摄像装置的框图。

图2是根据实施例1、实施例2和实施例3中的各个的图像处理方法的流程图。

图3A和图3B是通过反锐化掩模处理进行锐化的模式图。

图4A和图4B是在xy平面上的摄像光学系统的PSF的模式图。

图5A和图5B是利用旋转对称的反锐化掩模进行锐化处理的模式图。

图6A和图6B是利用非旋转对称的反锐化掩模进行锐化处理的模式图。

图7A和图7B是反锐化掩模的模式图和示意性截面图。

图8A至图8C是根据本发明的实施例1的图像处理方法的流程图。

图9是拜耳排列的模式图。

图10是输入图像的分割方法的说明图。

图11是输入图像在像高方向上的插值方法的说明图。

图12是根据本发明的实施例2的图像处理方法的流程图。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于佳能株式会社,未经佳能株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201510587511.2/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top