[发明专利]反应器在审
申请号: | 201510527748.1 | 申请日: | 2015-08-25 |
公开(公告)号: | CN105381770A | 公开(公告)日: | 2016-03-09 |
发明(设计)人: | 崔峻源;林艺勋;洪裕植;朴钟瑞;宋永秀 | 申请(专利权)人: | LG化学株式会社 |
主分类号: | B01J19/18 | 分类号: | B01J19/18 |
代理公司: | 北京鸿元知识产权代理有限公司 11327 | 代理人: | 姜虎;陈英俊 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 反应器 | ||
技术领域
本发明涉及反应器,具体涉及一种能够防止结垢积聚的反应器。
背景技术
一般来说,就聚合反应器、结晶反应器或者BR(顺丁橡胶)反应器而言,在反应器内部发生气化。此时,由于在气体-液体接触面上发生的泡沫破裂或者反应物落下至液面时的冲击等各种原因而产生飞沫(splash)或者液滴(droplet)。
另一方面,随着发生气化,在反应器内部的气相区域中发生上升流。此时,飞沫或者液滴随同上升流上升并固着在反应器内部的壁面上或者反应器的出口处。
发明内容
所要解决的技术问题
本发明的目的在于,提供一种能够防止在反应器内部结垢积聚的反应器。
此外,本发明的目的在于,提供一种能够去除在反应器内部形成的结垢的反应器。
此外,本发明的目的在于,提供一种能够使随同气相区域的上升流的液滴落下至液面的反应器。
此外,本发明的目的在于,提供一种能够使液滴落下的同时赋予冷凝效果的反应器。
解决技术问题的方案
为了解决所述问题,根据本发明的一实施方式,提供一种反应器,在其内部反应过程中发生气化,其包括:壳体,提供反应空间;入口部,位于气体-液体接触面的上部,用于向壳体的内部供给反应物;出口部,位于气体-液体接触面的上部,将在壳体内部因气化而上升的第一流体引导到壳体的外部;搅拌部,设置在壳体的内部;以及喷嘴部,具有多个喷射孔,所述多个喷射孔向气体-液体接触面喷射第二流体,以促使朝向出口部的第一流体的上升流中的液滴落下。
此外,所述反应可以是聚合反应或者是结晶反应。此外,所述反应器可以是聚合反应器或者是结晶反应器。
此外,喷射孔可以位于入口部和出口部之间的高度。
此外,可以将喷嘴部设置成能够沿着圆周方向旋转。
此外,喷嘴部的旋转中心可以与搅拌部的旋转中心位于同一轴上。
此外,可以将喷嘴部设置成能够在壳体的内部升降。
此外,反应物包含溶剂,并且第二流体可以与反应物的溶剂相同。
此外,第二流体的温度可以设定为低于反应物的温度。
此外,所述反应器可以进一步包括连接于出口部上的冷凝器。
此外,至少一个喷射孔可以向壳体的内壁喷射第二流体。
此外,多个喷射孔对于气体-液体接触面的喷射区域之和可以大于等于气体-液体接触面的面积。
此外,根据本发明的另一实施方式,提供一种反应器,在其内部反应过程中发生气化,其包括:壳体,提供沿着高度方向延伸的反应空间;入口部,位于气体-液体接触面的上部,用于向壳体的内部供给反应物;出口部,位于气体-液体接触面的上部,将在壳体的内部因气化而上升的第一流体引导到壳体外部;搅拌部,设置在壳体的内部;以及喷嘴部,具有多个喷射孔,所述多个喷射孔向气体-液体接触面喷射第二流体,以促使朝向出口部的第一流体的上升流中的液滴落下,并且至少两个喷射孔位于彼此不同的高度。
此外,多个喷射孔可以分别位于入口部和出口部之间的高度范围内。
此外,喷嘴部可以包括:第一喷嘴,其与出口部相邻;第二喷嘴,其与入口部相邻。此时,第一喷嘴和第二喷嘴可以分别包括环状的本体,所述本体上分别设有多个喷射孔。
此外,第一喷嘴的本体的直径可以小于第二喷嘴的本体的直径。
此外,第一喷嘴的喷射孔的数量可以少于第二喷嘴的喷射孔的数量。
此外,反应物包含溶剂,并且第二流体可以与反应物的溶剂相同。
此外,至少一个喷射孔可以向壳体的内壁喷射第二流体。
此外,各喷嘴的中心可以与搅拌部的旋转中心位于同一轴上。
此外,根据本发明的又另一实施方式,提供一种反应器,在其内部反应过程中发生气化,其包括:壳体,提供反应空间;入口部,位于气体-液体接触面的上部,用于向壳体的内部供给反应物;出口部,位于气体-液体接触面的上部,将在壳体的内部因气化而上升的第一流体引导到壳体的外部;搅拌部,设置在壳体的内部;冷凝器,设置在壳体的外部,连接于出口部;以及喷嘴部,具有多个喷射孔,所述多个喷射孔向气体-液体接触面喷射温度低于反应物温度的第二流体,以促使朝向出口部的第一流体的上升流中的液滴落下。
发明效果
如上所述,本发明的至少一个实施例涉及的反应器具有如下效果。
能够引导随同气相区域的上升流的液滴落下。
因此,能够防止在反应器的内部结垢积聚,并且能够去除在反应器内部形成的结垢。
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