[发明专利]用于二维流体动力聚焦的微流道结构和微流体芯片

权利要求书

1.一种用于二维流体动力聚焦的微流道结构，其特征在于，包括：

样本流流道，所述样本流流道包括在前后方向上连通的第一样本流流道和第二样本流流道；

上层纵向聚焦流流道，所述上层纵向聚焦流流道叠设在所述第一样本流流道的顶部，且所述上层纵向聚焦流流道的后端与所述第一样本流流道连通；

下层纵向聚焦流流道，所述下层纵向聚焦流流道叠设在所述第一样本流流道的底部，且所述下层纵向聚焦流流道的后端与所述第一样本流流道连通；

左侧横向聚焦流流道，所述左侧横向聚焦流流道设在所述第二样本流流道的左侧，且所述左侧横向聚焦流流道的后端与所述第二样本流流道连通；以及

右侧横向聚焦流流道，所述右侧横向聚焦流流道设在所述第二样本流流道的右侧，且所述右侧横向聚焦流流道的后端与所述第二样本流流道连通，

所述第一样本流流道在前后方向上沿直线延伸，所述上层纵向聚焦流流道和/或所述下层纵向聚焦流流道包括：

直线流道部，所述直线流道部与所述第一样本流流道在上下方向上对齐布置；

左侧弧线流道部，所述左侧弧线流道部设在所述直线流道部的左前侧，且所述左侧弧线流道部的后端与所述直线流道部相切且连通；

右侧弧线流道部，所述右侧弧线流道部设在所述直线流道部的右前侧，且所述右侧弧线流道部的后端与所述直线流道部相切且连通。

2.根据权利要求1所述的用于二维流体动力聚焦的微流道结构，其特征在于，所述第一样本流流道和所述第二样本流流道在前后方向上顺次连通。

3.根据权利要求1所述的用于二维流体动力聚焦的微流道结构，其特征在于，所述样本流流道在前后方向上沿直线延伸，且沿前后方向所述样本流流道在左右方向上的宽度不变。

4.根据权利要求1所述的用于二维流体动力聚焦的微流道结构，其特征在于，所述上层纵向聚焦流流道和所述下层纵向聚焦流流道关于所述第一样本流流道上下对称布置。

5.根据权利要求1所述的用于二维流体动力聚焦的微流道结构，其特征在于，所述第一样本流流道在前后方向上沿直线延伸，所述上层纵向聚焦流流道和/或所述下层纵向聚焦流流道关于所述第一样本流流道的纵向中心线左右对称。

6.根据权利要求1所述的用于二维流体动力聚焦的微流道结构，其特征在于，所述第二样本流流道在前后方向上沿直线延伸，所述左侧横向聚焦流流道和所述右侧横向聚焦流流道关于所述第二样本流流道的纵向中心线左右对称。

7.根据权利要求1所述的用于二维流体动力聚焦的微流道结构，其特征在于，所述第二样本流流道在前后方向上沿直线延伸，所述左侧横向聚焦流流道沿弧线延伸且后端与所述第二样本流流道相切且连通，所述右侧横向聚焦流流道沿弧线延伸且后端与所述第二样本流流道相切且连通。

8.一种微流体芯片，其特征在于，包括如权利要求1-7中任一项所述的用于二维流体动力聚焦的微流道结构。

9.根据权利要求8所述的微流体芯片，其特征在于，包括：

中层片体，所述中层片体上形成有所述样本流流道、所述左侧横向聚焦流流道和所述右侧横向聚焦流流道，

上层片体，所述上层片体叠设在所述中层片体的顶部，且所述上层片体上形成有所述上层纵向聚焦流流道；

下层片体，所述下层片体叠设在所述中层片体的底部，且所述下层片体上形成有所述下层纵向聚焦流流道；

上盖，所述上盖叠设在所述上层片体的顶部；

下盖，所述下盖叠设在所述下层片体的底部，其中，所述上盖和所述下盖中的至少一个上形成有与所述样本流流道连通的样本流注入口和输出口、以及与所述上层纵向聚焦流流道、所述下层纵向聚焦流流道、所述左侧横向聚焦流流道、所述右侧横向聚焦流流道分别连通的聚焦流注入口。