[发明专利]一种单分散氧化亚钴纳米晶的合成方法在审
申请号: | 201510325373.0 | 申请日: | 2015-06-12 |
公开(公告)号: | CN104925871A | 公开(公告)日: | 2015-09-23 |
发明(设计)人: | 王立;吕帅;李金林;张煜华 | 申请(专利权)人: | 中南民族大学 |
主分类号: | C01G51/04 | 分类号: | C01G51/04;B82Y30/00 |
代理公司: | 武汉宇晨专利事务所 42001 | 代理人: | 余晓雪;王敏锋 |
地址: | 430074 湖北*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 分散 氧化 纳米 合成 方法 | ||
1.一种单分散氧化亚钴纳米晶的合成方法,其特征在于,步骤如下:在氢气和氩气混合气氛下,将有机胺和有机钴盐混合,加热到80-100℃保持2-8min,然后以5-10℃/min的速率升温至175~300℃回流1.5h-4h,停止加热,冷却到70℃,离心,洗涤,60~110℃干燥3~12h,得到产物;
所述有机胺为苄胺、十二胺、十四胺或十八胺;
所述有机钴盐为乙酰丙酮钴(III)、乙酰丙酮钴(II)或油酸钴;
所述有机钴盐与有机胺摩尔比为1/5~1/1600。
2.根据权利要求1所述的合成方法,其特征在于:所述有机钴盐与有机胺摩尔比为1/10~1/400。
3.根据权利要求1所述的合成方法,其特征在于:所述氢气和氩气混合气氛中,氢气体积分数为10-40%。
4.根据权利要求1所述的合成方法,其特征在于:所述加热到80-100℃保持2-8min后,以5-10℃/min的速率升温至180~280℃。
5. 根据权利要求1-4中任一所述的合成方法,其特征在于:所述产物为单分散氧化钴颗粒,属于立方晶系,生长方向为[111]。
6.根据权利要求1-4中任一所述的合成方法,其特征在于:所述产物平均粒径为2~60nm。
7.根据权利要求1-4中任一所述的合成方法,其特征在于:所述产物平均粒径为5.4~34.5nm。
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