[发明专利]气液两相雾化清洗装置及清洗方法

权利要求书

1.一种气液两相雾化清洗装置，其特征在于，所述装置包括气体管道、液体管道以及气液两相雾化喷嘴，所述气体管道和液体管道的一端设置在摆臂上，其另一端连通所述气液两相雾化喷嘴以形成雾化颗粒，所述摆臂带动所述气液两相雾化喷嘴在晶片边缘与晶片中心之间做圆弧往复运动；其中，

所述气液两相雾化喷嘴包括喷嘴部件液体主管路、喷嘴部件气体管路、液体出液孔以及气体出气孔；所述喷嘴部件液体主管路一端连接所述液体管道，另一端具有若干呈发散状且等距离分布的喷嘴部件液体分管路，所述喷嘴部件液体分管路具有与所述气液两相雾化喷嘴的轴向方向呈预设角度倾斜的端面，所述端面上具有若干预设直径的液体出液孔，所述喷嘴部件气体管路侧壁上设有气体管路接口以连通所述气体管道，各喷嘴部件液体分管路之间具有水平设置的扇形出气网板，所述出气网板上设有若干预设直径的气体出气孔。

2.根据权利要求1所述的气液两相雾化清洗装置，其特征在于，所述端面与所述气液两相雾化喷嘴的轴向方向之间的夹角为10°～80°。

3.根据权利要求1所述的气液两相雾化清洗装置，其特征在于，所述气液两相雾化喷嘴的下端设有雾化颗粒导向管路，以去除与所述气液两相雾化喷嘴轴向方向不平行的雾化颗粒。

4.根据权利要求1所述的气液两相雾化清洗装置，其特征在于，所述气液两相雾化喷嘴的上方设有喷嘴旋转部件，以调整所述气液两相雾化喷嘴的喷射角度。

5.根据权利要求1所述的气液两相雾化清洗装置，其特征在于，所述气体管道上设有用于调节气体流量的气体流量调节阀，和/或所述液体管道上设有用于调节液体流量的第一液体流量调节阀。

6.根据权利要求1所述的气液两相雾化清洗装置，其特征在于，所述液体出液孔和气体出气孔的预设直径为1～300μm。

7.根据权利要求1所述的气液两相雾化清洗装置，其特征在于，所述摆臂上还设有用于向晶片喷射液相流体的液相清洗管道。

8.根据权利要求7所述的气液两相雾化清洗装置，其特征在于，所述液相清洗管道上设有用于调节液体流量的第二液体流量调节阀。

9.根据权利要求7所述的气液两相雾化清洗装置，其特征在于，所述气体管道、液体管道以及液相清洗管道上均设有用于控制开关的气动阀。

10.一种基于权利要求1-9任一项所述的气液两相雾化清洗装置的清洗方法，其特征在于，首先开启液相清洗管道的气动阀，使得晶圆表面均匀覆盖一层液膜；随后同时开启所述气体管道以及液体管道的气动阀，形成雾化颗粒，喷射在晶圆表面的液膜中。