[发明专利]一种等离子体废气处理装置有效

专利信息
申请号: 201510226984.X 申请日: 2015-05-06
公开(公告)号: CN104941399A 公开(公告)日: 2015-09-30
发明(设计)人: 张宽照 申请(专利权)人: 北京源生恒通环保科技有限公司
主分类号: B01D53/32 分类号: B01D53/32
代理公司: 北京市商泰律师事务所 11255 代理人: 柳江
地址: 101399 北京市顺义区*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 等离子体 废气 处理 装置
【说明书】:

技术领域

发明涉及废气处理领域,具体涉及一种等离子体废气处理装置。

背景技术

随着社会工业化的水平的日益深入,不可避免地伴随产生包括固体、水和空气在内的各类污染。其中的废气污染的产生主要是伴随重工业的发展而产生,由于废气中通常含有大量的如挥发性有机物VOCs、苯系物(如甲苯、二甲苯)、全氟碳、碳卤烃化合物、二氧化硫、氮氧化物、二恶英类物质等在内的有毒、有害和/或嗅味物质,寻求可行度高且不产生二次污染的方法来处理上述有机污染物,对于缓解环境压力显得尤为重要。

随着等离子体(等离子体是继固、液、气之后的物质第四态,是由原子及原子团的部分电子被剥夺后,电离产生的正负离子组成的离子化气体状物质)技术的迅速发展和提高,尤其是低温等离子体技术的应用日益广泛,低温等离子体技术的放电形式主要包括辉光放电、电晕放电和介质阻挡放电,其中介质阻挡放电的低温等离子体技术是一种由绝缘介质插入放电空间的气体放电形式,由于其可实现大面积的均匀放电,可以使有机物分子、水分子以及氧气分子充分产生电离,激发出丰富包括-OH、O3、-O、携能电子、R和H2O2等在内的活性粒子以及高能粒子,上述活性粒子以及高能粒子可以与废气中的部分有毒有害成分发生反应,将大分子降解为小分子,通过丰富的氧化还原反应降低废气毒性,去除其臭味成分的同时,起到很好的灭菌作用。

但是,介质阻挡放电产生等离子体的效率是介质阻挡放电的低温等离子体技术的应用中的关键参数,目前关于介质阻挡放电的低温等离子体技术的应用中,多采用单级放电单元,因此一些高浓度污染废气难去除,废气处理水平得不到实质性的突破,如发明(CN102814109A)公开的一种基于介质阻挡电晕放电等离子体处理废气的装置,以及发明(CN103841741A)公开的一种基于介质阻挡放电的大气压等离子体发生装置等均存在上述缺陷。如何提高介质阻挡放电产生等离子体的效率,是亟待解决的问题。

发明内容

有鉴于此,本发明提供一种等离子体废气处理装置,旨在通过有效提高放电面积,增加等离子体与废气反应的效率。

本发明采用的技术方案具体为:

一种等离子体废气处理装置,包括基架和放电单元,所述放电单元能够拆装于所述基架;其中:至少一排所述放电单元置于所述基架,每排放电单元包括至少一级所述放电单元。

在上述等离子体废气处理装置中,当放电单元的级数或者排数>1时,多个所述放电单元之间相互平行。

在上述等离子体废气处理装置中,所述放电单元包括电极和介质层,所述介质层同轴包裹于所述电极的外部。

在上述等离子体废气处理装置中,所述介质层为石英介质层或者聚四氟乙烯介质层。

在上述等离子体废气处理装置中,所述基架包括固定架和挡板,所述固定架包括第一集成板和第二集成板,所述放电单元固定于所述第一集成板和所述第二集成板之间,相邻列的所述放电单元通过所述挡板阻隔。

在上述等离子体废气处理装置中,所述挡板包括第一隔板和第二隔板,所述第一隔板和所述第二隔板之间设有间隙。

在上述等离子体废气处理装置中,所述间隙的宽度为0.5~3.5cm。

在上述等离子体废气处理装置中,所述第一隔板的结构中包括若干个凹弧面,所述凹弧面与所述放电单元为同轴结构,所述凹弧面与所述放电单元之间留有缝隙。

在上述等离子体废气处理装置中,所述缝隙的宽度为1~8mm。

本发明产生的有益效果是:

本发明的废气处理装置是基于介质阻挡放电的多级多排等离子体高效处理废气的装置,可以根据处理效率及废气气量的实际情况对放电单元进行组合,根据气量大小调节电极排数,进而调节有效处理面积,且通过调节装置的电极级数来适应相应的废气处理效率需求,产生多级、多排的等离子体发生装置,通过增大废气在电极间通道的距离,使废气与等离子体充分反应,节能高效地去除废气中的有毒有害污染物

此外,挡板与电极间的弧形通道可进一步增加废气与等离子体接触的距离,使其更加充分反应,进一步提高了废气的处理水平;尤其适用于对含硫、含氮异味气体及苯系物、酯类、醇类、醚类废气的处理。

附图说明

当结合附图考虑时,能够更完整更好地理解本发明。此处所说明的附图用来提供对本发明的进一步理解,实施例及其说明用于解释本发明,并不构成对本发明的不当限定。

图1为本发明一种等离子体废气处理装置的结构示意图;

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