[发明专利]高钨含量且无裂纹的钨镍合金镀层及电镀液和电镀工艺在审

专利信息
申请号: 201510215666.3 申请日: 2015-04-30
公开(公告)号: CN104846409A 公开(公告)日: 2015-08-19
发明(设计)人: 苏长伟;白阳;侯健萍;叶孟超;郭俊明;袁明龙 申请(专利权)人: 云南民族大学
主分类号: C25D3/56 分类号: C25D3/56;C25D15/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 6505*** 国省代码: 云南;53
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摘要:
搜索关键词: 含量 裂纹 镍合金 镀层 电镀 工艺
【权利要求书】:

1.一种高钨含量且无裂纹的钨镍合金镀层,其特征在于:

a.钨镍合金镀层中钨的含量在30 ~ 63 Wt %;

b.钨镍合金镀层通过显微镜分析,放大5000倍,在60μm×60μm面积上,观察不到裂纹。

2.一种高钨含量且无裂纹的钨镍合金电镀液,其特征在于:电镀液组分包括硫酸镍10 ~ 60 g/L,钨酸钠10 ~ 60 g/L,柠檬酸铵10 ~ 150 g/L和 不溶性颗粒1 ~ 20 g/L。

3.根据权利要求2所述的高钨含量且无裂纹的钨镍合金电镀液,其特征在于:不溶性颗粒为碳化硅、碳化硅和三氧化二铝的一种。

4.根据权利要求2所述的高钨含量且无裂纹的钨镍合金电镀液,其特征在于:电镀液中钨酸钠的质量含量大于等于硫酸镍;电镀液中柠檬酸铵与硫酸镍和钨酸钠两种金属盐的质量比在1 ~ 1.5之间。

5.一种高钨含量且无裂纹的钨镍合金电镀工艺,其特征在于:电镀液的温度为60 ~ 90℃;电镀液的pH值为6 ~ 9;电流密度为2.5 ~ 10 A/dm2

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