[发明专利]一种基于CrC镀层的高速精密球轴承及其制作方法有效
申请号: | 201510066620.X | 申请日: | 2015-02-09 |
公开(公告)号: | CN104726822A | 公开(公告)日: | 2015-06-24 |
发明(设计)人: | 贾贵西;孙小捞;田丽萍;常云朋 | 申请(专利权)人: | 洛阳理工学院 |
主分类号: | C23C14/06 | 分类号: | C23C14/06;C23C14/35;F16C19/02 |
代理公司: | 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 11019 | 代理人: | 寿宁;张华辉 |
地址: | 471000 *** | 国省代码: | 河南;41 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 基于 crc 镀层 高速 精密 球轴承 及其 制作方法 | ||
1.一种基于CrC镀层的高速精密球轴承,其特征在于:该高速精密球轴承的钢球表面和套圈表面为CrC梯度复合镀层,该CrC梯度复合镀层是由Cr底层、Cr-C过渡层和C-Cr工作层组成。
2.一种如权利要求1所述的基于CrC镀层的高速精密球轴承的制作方法,其特征在于:在该钢球表面沉积CrC梯度复合镀层的步骤如下:
(a)采用闭合场非平衡磁控溅射离子镀设备制备CrC梯度复合镀层,其中溅射靶为两个高纯度的C靶和两个高纯度的Cr靶;
(b)把钢球放入真空室前,用丙酮和酒精采用超声波各清洗两次钢球,并用冷风吹干所述钢球;
(c)沉积时通入氩气,清洗基体,然后把工件架放在所述溅射靶之间匀速转动,所述钢球在所述工件架上匀速转动;只打开两个所述Cr靶,电流为1.5A;
(d)将400V的负偏压线性降为75V负偏压,同时将所述Cr靶电流降为1.0A;
(e)对基体施加75V负偏压沉积CrC梯度复合镀层;
(f)关闭Cr靶和C靶以保护所述CrC梯度复合镀层,继续通入氩气,直至CrC梯度复合镀层的温度降为常温。
3.根据权利要求2所述的基于CrC镀层的高速精密球轴承的制作方法,其特征在于:步骤(a)中所述C靶的纯度为99.9%,所述Cr靶的纯度为99.9%。
4.根据权利要求2所述的基于CrC镀层的高速精密球轴承的制作方法,其特征在于:步骤(b)中每次清洗的时间为10~15min。
5.根据权利要求2所述的基于CrC镀层的高速精密球轴承的制作方法,其特征在于:步骤(c)中镀层沉积前本底真空度为4.0×10-3Pa,所述氩气的纯度为99.9%,所述清洗基体的气压为0.10Pa,且清洗基体时施加400V的负偏压,清洗基体的时间为15分钟。
6.根据权利要求2所述的基于CrC镀层的高速精密球轴承的制作方法,其特征在于:步骤(d)中所述将400V的负偏压线性降为75V负偏压的时间为3分钟内。
7.根据权利要求2所述的基于CrC镀层的高速精密球轴承的制作方法,其特征在于:步骤(e)中所述CrC梯度复合镀层是由Cr底层、Cr-C过渡层和C-Cr工作层组成。
8.根据权利要求7所述的基于CrC镀层的高速精密球轴承的制作方法,其特征在于:
所述Cr底层的沉积步骤:只打开Cr靶,电流为1.0A,沉积10分钟,以保证镀层与基体有良好的结合强度;
所述Cr-C过渡层的沉积步骤:逐渐线性降低Cr靶的电流为0.05A;同时,打开两个C靶,并将其电流增大到1.2A,以保证镀层结构的平稳过渡;
所述C-Cr工作层的沉积步骤:固定Cr靶和C靶电流,制备组织结构均匀的C-Cr工作层。
9.根据权利要求8所述的基于CrC镀层的高速精密球轴承的制作方法,其特征在于:在所述C-Cr工作层的沉积步骤中,所述沉积的时间为4~6h,所述沉积的C-Cr工作层的厚度为2~3μm。
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