[发明专利]一种光刻胶喷涂方法及装置有效
| 申请号： | 201510053380.X | 申请日： | 2015-02-02 |
| 公开（公告）号： | CN104714370B | 公开（公告）日： | 2019-09-03 |
| 发明（设计）人： | 张华 | 申请（专利权）人： | 苏州工业园区纳米产业技术研究院有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/16 | 分类号： | G03F7/16;B05B9/03;B05B13/02;B81C1/00 |
| 代理公司： | 苏州市中南伟业知识产权代理事务所(普通合伙) 32257 | 代理人： | 李阳 |
| 地址： | 215123 江苏省苏州市工业*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 光刻 喷涂 方法 装置 | ||
【权利要求书】：
1.一种光刻胶喷涂方法，提供硅片和喷嘴，其特征在于：所述喷嘴设置在所述硅片下方，所述喷嘴向上喷射光刻胶，光刻胶呈胶粒状态运动至所述硅片表面；
所述喷嘴和硅片设置在低压腔室中；
所述硅片还连接静电发生器，所述硅片通过静电来吸附胶粒；
所述低压腔室内的压力维持恒定，压力值的范围是10~50000Pa；
所述硅片通过加热来提高固定胶粒的能力；
其中，所述喷嘴是超声雾化喷嘴。
2.一种光刻胶喷涂装置，包括硅片和喷嘴，其特征在于：所述喷嘴设置在所述硅片的下方；
所述光刻胶喷涂装置还包括低压腔室，所述喷嘴和硅片设置在所述低压腔室中；
所述硅片连接静电发生器；
所述低压腔室内的压力维持恒定，压力值的范围是10~50000Pa；
所述硅片的上方设有加热板；
其中，所述喷嘴是超声雾化喷嘴。
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