[发明专利]一种净化曝光装置

权利要求书

1.一种净化曝光装置，包括净化工作台，以及置于该净化工作台内的曝光机、光刻胶显影液槽、漂洗液槽，所述的净化工作台包括工作腔体、进气系统、排气系统，所述进气系统包括位于工作腔体顶部的进气腔，进气腔与工作腔体连接处布置有散流板；所述排气系统包括位于工作腔体下方的排气腔，排气腔的后侧设置有用于和抽气设备连接的排气口；所述工作腔体的前端部设置有隔断低压腔，所述隔断低压腔具有供操作人员伸手进入工作腔体内部的操作通道，所述隔断低压腔的底部与排气腔连通; 所述操作通道的上部设置有挡块，挡块靠近工作腔体一侧设置有朝向工作腔体内侧的第一引流面，挡块靠近操作人员一侧设置有朝向操作人员的第二引流面，所述第一、第二引流面在挡块的最低处相接,呈现倒V型，工作腔体内的气体和外界大气分别在第一、第二引流面的引流作用下形成向下流动的趋势。

2.根据权利要求1所述的净化曝光装置，其特征在于：所述净化工作台的工作腔体下方具有底座，所述光刻胶显影液槽、漂洗液槽嵌在该底座内。

3.根据权利要求2所述的净化曝光装置，其特征在于：所述底座上设置有用于承载硅片的曝光台，所述曝光机位于曝光台的上方。

4.根据权利要求2所述的净化曝光装置，其特征在于：所述底座设置有用于遮挡曝光机光线的挡板，工作腔体内还设置有将曝光机与光刻胶显影液槽隔开的电动门。

5.根据权利要求1所述的净化曝光装置，其特征在于：所述隔断低压腔内的气压范围为0.9-0.7个大气压。