[发明专利]一种低耦合度的多天线系统在审

专利信息
申请号: 201510030716.0 申请日: 2015-01-21
公开(公告)号: CN104638366A 公开(公告)日: 2015-05-20
发明(设计)人: 司黎明;张庆乐;胡伟东;吕昕;金宇婷;冯佳琦 申请(专利权)人: 北京理工大学
主分类号: H01Q1/52 分类号: H01Q1/52;H01Q21/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 100081 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 耦合度 天线 系统
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种低耦合度的多天线系统,该系统适用于相控阵天线、MIMO天线等多天线系统。

背景技术

随着相控阵天线和无线MIMO通信系统的快速发展,紧凑的多单元天线越来越受到科研人员的重视,但是在多单元天线系统中,单元间的耦合是阵列天线应用中一个十分严重的问题。单元间的耦合会降低天线的辐射效率,减小天线的工作带宽,产生辐射死角或者使副瓣恶化等问题。因此在先进的相控阵系统和MIMO通信系统中,减小相邻天线单元的耦合,提高天线单元的隔离度变得越来越重要。

为此,研究人员进行了大量的研究并提出了几种有效的方法。FanYang(Yang F,Rahmat-Samii Y.Microstrip antennas integrated with electromagnetic band-gap(EBG)structures:A low mutual coupling design for array applications.IEEE Transactions on Antennas and Propagation 2003,51(10):2936-2946.)首次利用mushroom结构的电磁带隙结构降低了天线单元间的耦合,利用了电磁带隙结构能够抑制表面波的传输的特性,但是该结构中含有金属过孔,会引起电损耗,同时会增加制造难度。Zhu(Zhu,F.-G.;Xu,J.-D.;Xu,Q.,Reduction of mutual coupling between closely-packed antenna elements using defected ground structure,Electronics Letters,vol.45,no.12,pp.601,602,June 2009)等人提出采用哑铃状结构的缺陷地结构降低了倒F天线单元间的互偶,使得天线单元之间的隔离度超过了-40dB,实现了较高的隔离度,但是采用这种结构改变了天线本身H面的辐射特性。

发明内容

本发明的目的是为了克服上述现有技术的不足,针对减小阵列天线单元之间的耦合问题,提出一种低耦合度的多天线系统,应用一种近零折射率超材料结构降低了阵列天线单元间互偶的问题,该多天线系统体积小、成本低、结构简单,该多天线系统的天线单元之间的耦合度低。

本发明的目的是通过以下技术方案实现的。

本发明的一种低耦合度的多天线系统,该多天线系统包括两个以上的天线单元,相邻天线单元之间有近零折射率超材料,且相邻天线单元与近零折射率超材料共面。

所述的近零折射率超材料的折射率的实部的绝对值小于0.5,该多天线系统的天线单元之间的耦合度可以大幅度降低。

有益效果

本发明解决了阵列天线单元之间耦合的问题,通过加载近零折射率超材料,在不影响天线辐射特性的基础上,降低了天线单元之间的耦合,同时结构简单,便于与阵列天线大规模集成。

附图说明

图1是实施例中多天线系统的结构示意图;

图2是本发明的近零折射率超材料结构示意图;

图3是本发明的近零折射率超材料的折射率;

图4是本发明的微带天线加载近零折射率超材料前后反射系数比较;

图5是本发明的微带天线加载近零折射率超材料前后耦合的比较;

图6(a)是本发明的微带天线加载近零折射率超材料前后5.1GHz频率时E面方向图的比较。

图6(b)是本发明的微带天线加载近零折射率超材料前后5.1GHz频率时H面方向图的比较。

具体实施方式

下面结合附图和具体实施方式对本发明作进一步的详细说明。

实施例

作为本发明的一种优选实施例,本发明包括微带天线和近零折射率超材料。

如图1所示,一种低耦合度的多天线系统,该多天线系统包括两个天线单元,两个天线单元之间有近零折射率超材料,且相邻天线单元与近零折射率超材料共面。

所述的两个天线单元相同,均为矩形微带天线;多天线系统由两个矩形微带天线和八排两列近零折射率超材料组成。矩形微带天线印刷在FR4介质板上,厚度为1.6mm,两个矩形微带天线单元的中心间距为30mm。

近零折射率超材料印刷在FR4介质板上且与两个矩形微带天线单元共面;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京理工大学,未经北京理工大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201510030716.0/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top