[发明专利]用于产生真空的泵送系统及利用此泵送系统的泵送方法

权利要求书

1.用于产生真空的泵送系统(SP)，该泵送系统包含主要真空泵，该主要真空泵是具有气体抽吸入口(2)及气体排放出口(4)的干式螺杆型泵(3)，该气体抽吸入口(2)被连接至真空室(1)，该气体排放出口(4)在该泵送系统的外部的气体排气出口(8)的方向上通向气体排空管道(5)中，

该泵送系统的特征在于：该泵送系统包含：

-止回阀(6)，被定位在该气体排放出口(4)与该气体排气出口(8)之间，及

-辅助真空泵(7)，被并联连接至该止回阀。

2.根据权利要求1所述的泵送系统，其特征在于，该辅助真空泵(7)从干式螺杆型泵、爪式泵、多级罗茨泵、隔膜泵、干式旋转叶片泵及润滑旋转叶片泵中选择。

3.根据权利要求1或2所述的泵送系统，其特征在于，该辅助真空泵(7)是干式螺杆型泵。

4.根据权利要求1或2所述的泵送系统，其特征在于，该辅助真空泵(7)是爪式泵。

5.根据权利要求1或2所述的泵送系统，其特征在于，该辅助真空泵(7)是多级罗茨泵。

6.根据权利要求1或2所述的泵送系统，其特征在于，该辅助真空泵(7)是隔膜泵。

7.根据权利要求1或2所述的泵送系统，其特征在于，该辅助真空泵(7)是干式旋转叶片泵。

8.根据权利要求1或2所述的泵送系统，其特征在于，该辅助真空泵(7)是润滑旋转叶片泵。

9.根据前述权利要求中任一项所述的泵送系统，其特征在于，该辅助真空泵(7)被设计成能够在该主要真空泵(3)泵送该真空室(1)中所含有的气体的整个时间期间泵送，和/或在该主要真空泵(3)将该真空室(1)中维持在一个限定的压力的整个时间期间泵送。

10.根据前述权利要求中任一项所述的泵送系统，其特征在于，该辅助真空泵(7)包含排放端，该排放端在该止回阀(6)的下游被连接至该气体排空管道(5)。

11.根据前述权利要求中任一项所述的泵送系统，其特征在于，该辅助真空泵(7)的标称流率被选择为该气体排空管道(5)在该主要真空泵(3)与该止回阀(6)之间所限定的体积的函数。

12.根据前述权利要求中任一项所述的泵送系统，其特征在于，该辅助真空泵(7)的标称流率是该主要真空泵(3)的标称流率的1/500至1/20。

13.根据前述权利要求中任一项所述的泵送系统，其特征在于，该辅助真空泵(7)是单级的或多级的。

14.根据前述权利要求中任一项所述的泵送系统，其特征在于，该止回阀(6)被配置成当该主要真空泵(3)的抽吸端处的压力少于500绝对毫巴时关闭。

15.根据前述权利要求中任一项所述的泵送系统，其特征在于，该辅助真空泵(7)是由对半导体工业中普遍使用的物质及气体具有高耐化学性的材料制成的。

16.一种利用根据前述权利要求中任一项所述的泵送系统(SP)的泵送方法，其特征在于，

-该主要真空泵(3)被启动，以便泵送该真空室(1)中所含有的气体，及将这些气体排放通过该主要真空泵(3)的气体排放出口(4)；

-同时，该辅助真空泵(7)被启动；及

-该辅助真空泵(7)在该主要真空泵(3)泵送该真空室(1)中所含有的气体的整个时间期间持续泵送，和/或在该主要真空泵(3)将该真空室(1)中维持在一个限定的压力的整个时间期间持续泵送。

17.根据权利要求16所述的泵送方法，其特征在于，该辅助真空泵(7)以该主要真空泵(3)的标称流率的1/500至1/20的数量级的流率泵送。

18.根据权利要求16或17所述的泵送方法，其特征在于，当该主要真空泵(3)的抽吸端处的压力少于500绝对毫巴时，该止回阀(6)关闭。