[发明专利]真空处理系统中的多用途低温冷却器

权利要求书

1.一种处理设备，包括：

处理腔室，用于处理柔性基板；

卷绕腔室，用于引导所述柔性基板进入或离开所述处理腔室；

低温冷却器；和

低温表面，与所述低温冷却器连接，其中所述低温表面包括位于所述处理腔室中的第一主动泵送表面和位于所述卷绕腔室中的第二主动泵送表面。

2.如权利要求1所述的处理设备，其中所述处理腔室和所述卷绕腔室被提供在真空壳体中，并且其中用于引导所述柔性基板的辊布置可插入所述真空壳体中并且可从所述真空壳体中抽出，具体地说，其中被提供的所述辊布置将所述处理腔室与所述卷绕腔室分开。

3.如权利要求1或2所述的处理设备，其中所述第一主动泵送表面和所述第二主动泵送表面串联连接到所述低温冷却器，并且其中所述第一主动泵送表面比所述第二主动泵送表面更靠近所述低温冷却器的冷却出口。

4.如权利要求2或3所述的处理设备，其中所述辊布置设置在可移动支撑件上。

5.如权利要求4所述的处理设备，其中用于以真空密封的方式封闭所述真空壳体的壁被设置在所述可移动支撑件上。

6.如权利要求5所述的处理设备，其中所述壁将所述处理设备分割为延伸到所述真空壳体之中的区域和保留在所述真空壳体外部的区域。

7.如权利要求2～6任一项所述的处理设备，其中所述低温冷却器设置在所述真空壳体外。

8.如权利要求1～7任一项所述的处理设备，其中所述第一主动泵送表面和所述第二主动泵送表面具有不同尺寸。

9.如权利要求4～8任一项所述的处理设备，其中所述可移动支撑件包括至少一个分隔壁，所述分隔壁将所述处理腔室与所述卷绕腔室分开。

10.如权利要求9所述的处理设备，其中所述至少一个分隔壁在所述分隔壁与处理滚筒之间提供至少一个间隙。

11.如权利要求4～10任一项所述的处理设备，其中所述第一主动泵送表面、所述第二主动泵送表面和所述低温冷却器设置在所述可移动支撑件上，具体地说，其中所述第一和第二主动泵送表面设置在延伸到所述真空壳体之中的所述区域上。

12.如权利要求2～10任一项所述的处理设备，其中所述第一主动泵送表面和所述第二主动泵送表面被固定设置在所述真空壳体中。

13.一种涂布设备，包括：

涂布腔室，用于在柔性基板上沉积材料；

卷绕腔室，用于引导所述柔性基板进入或离开所述涂布腔室；

真空壳体，其中所述涂布腔室和所述卷绕腔室被提供在所述真空壳体中；

低温冷却器；

低温表面，与所述低温冷却器连接，其中所述低温表面包括位于所述涂布腔室中的第一主动泵送表面和位于所述卷绕腔室中的第二主动泵送表面；

辊布置，用于引导所述柔性基板，其中所述辊布置可插入所述真空壳体中并且可从所述真空壳体中抽出，具体地说，其中被提供的所述辊布置将所述涂布腔室与所述卷绕腔室分开，并且其中所述辊布置设置在可移动支撑件上；以及

设置在所述可移动支撑件上的壁，用于以真空密封的方式封闭所述真空壳体。

14.一种用于处理基板的方法，包括：

将处理腔室排空至第一压力，所述处理腔室用于在柔性基板上沉积材料；

将卷绕腔室排空至第二压力，所述卷绕腔室用于引导所述柔性基板进出所述处理腔室，所述第二压力高于所述第一压力；以及

从低温冷却器向位于所述处理腔室中的第一主动泵送表面并且从所述第一主动泵送表面向位于所述卷绕腔室中的第二主动泵送表面提供冷却流体。

15.如权利要求14所述的方法，进一步包括：

在真空壳体中移动可移动支撑件；

通过分隔壁将所述处理腔室与所述卷绕腔室分开，其中所述分隔壁包括在所述可移动支撑件上；以及

对所述处理腔室和所述卷绕腔室进行排气，并且将所述可移动支撑件移出所述真空壳体。