[发明专利]清洁刮板有效

专利信息
申请号: 201480068690.2 申请日: 2014-12-15
公开(公告)号: CN106164783B 公开(公告)日: 2018-01-02
发明(设计)人: 木村奈津美;阿部美幸;东良敏弘;阿部克己 申请(专利权)人: NOK株式会社;新智德株式会社
主分类号: G03G21/00 分类号: G03G21/00
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司72001 代理人: 张桂霞,李炳爱
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 清洁
【说明书】:

技术领域

本发明涉及在电子照相式复印机和打印机、或者调色剂(toner)喷射式复印机和打印机等图像形成装置中使用的清洁刮板。

背景技术

通常,在电子照相工艺中,对电子照相感光体至少施行清洁、带电、曝光、显影和转印等各种工艺。在各种工艺中,使用清除残留在感光转鼓表面的调色剂的清洁刮板、或对感光体赋予相同电荷的导电辊、或转印调色剂图像的转印带等。而且,从塑性变形或耐磨损性的角度考虑,清洁刮板主要由热固化性聚氨酯树脂制成。

但是,例如在使用由聚氨酯树脂制成的清洁刮板时,有时刮板部材与感光转鼓的摩擦系数会变大,导致刮板发生卷曲或产生异常声音,或者必须加大感光转鼓的驱动扭矩。另外,有时清洁刮板的顶端还会卷入感光转鼓等中被拉伸而断裂,导致清洁刮板的顶端发生磨耗破损。当清洁刮板的硬度低时,上述问题特别显著,其结果,有时清洁刮板的耐久性也会不足。

为了解决这样的问题,一直以来人们尝试着使聚氨酯制刮板的接触部达到高硬度、且摩擦小。例如,有人提出了如下的方法:使异氰酸酯化合物浸透聚氨酯制刮板,使聚氨酯树脂和异氰酸酯化合物反应,从而只使聚氨酯树脂刮板的表面和表面附近达到高硬度,并且进行表面的低摩擦化(例如参照专利文献1~3)。

但是,为了通过专利文献1~3所公开的方法获得刮板所需的特性,需要使具有高浓度的异氰酸酯化合物的表面处理液浸透聚氨酯树脂,随之需要深深地形成表面处理层。若想要使表面处理液达到高浓度并且深深地形成表面处理层,则刮板表面容易残留过剩量的异氰酸酯,因此需要进行除去该异氰酸酯的步骤。另一方面,若使表面处理层变薄,则耐磨损性不充分,存在着清洁性下降的问题。

现有技术文献

专利文献

专利文献1:日本特开2007-052062号公报;

专利文献2:日本特开2009-025451号公报;

专利文献3:日本特开2004-280086号公报。

发明内容

发明所要解决的课题

鉴于这种情况,本发明的目的在于提供一种清洁刮板,所述清洁刮板即使其表面处理层的厚度薄也可达到高硬度且摩擦小,并且耐磨损性优异,可长期维持良好的清洁性。

用于解决课题的手段

解决上述课题的本发明的方案涉及一种清洁刮板,其特征在于:该清洁刮板具有作为橡胶基材成型体的弹性体,在上述弹性体的与被接触体接触的部位至少具有表面处理层,上述表面处理层是使含有二官能异氰酸酯化合物、三官能多元醇和有机溶剂的表面处理液;或者含有含异氰酸酯基的化合物和有机溶剂的表面处理液浸透上述弹性体并进行固化而形成的层,所述含异氰酸酯基的化合物是上述二官能异氰酸酯化合物与上述三官能多元醇的反应产物、且具有异氰酸酯基,上述二官能异氰酸酯化合物中所含的异氰酸酯基与上述三官能多元醇中所含的羟基的比例(NCO基/OH基)为1.0以上且1.5以下,上述表面处理层的厚度为10μm以上且100μm以下。

根据所述的发明,可得到一种清洁刮板,该清洁刮板即使其表面处理层的厚度薄也可达到高硬度且摩擦小,并且耐磨损性优异,可长期维持良好的清洁性。另外,由于表面处理层的厚度薄至10μm以上且100μm以下,所以表面处理液在表面上的残留和干燥后的析出减少,可防止在表面涂布过剩量的异氰酸酯化合物。

这里,上述二官能异氰酸酯化合物优选分子量为200以上且300以下,上述三官能多元醇优选分子量为150以下。

根据本发明,二官能异氰酸酯化合物与三官能多元醇的反应良好地进行,可高效率地形成表面处理层。

这里,上述弹性体优选为聚氨酯。

根据本发明,由于聚氨酯与表面处理液中所含的二官能异氰酸酯化合物的亲和性高,因此可使表面处理层达到更高硬度且摩擦小。

发明效果

根据本发明,可得到一种清洁刮板,所述清洁刮板即使其表面处理层的厚度薄也可达到高硬度且摩擦小,并且耐磨损性优异,可长期维持良好的清洁性。另外,由于表面处理层的厚度薄至10μm以上且100μm以下,因此可防止在表面涂布过剩量的异氰酸酯化合物。

附图说明

图1是本发明所涉及的清洁刮板之一例的横断面图。

具体实施方式

以下,对将本发明的清洁刮板应用于图像形成装置的情形进行详细说明。

(实施方式1)

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于NOK株式会社;新智德株式会社,未经NOK株式会社;新智德株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201480068690.2/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top