[发明专利]用于去除表面上的残余物的清洗调配物有效
申请号: | 201480066376.0 | 申请日: | 2014-12-03 |
公开(公告)号: | CN105873691B | 公开(公告)日: | 2018-04-20 |
发明(设计)人: | 高桥智威;杜冰;W·A·沃伊特恰克;T·多瑞;E·A·克内尔 | 申请(专利权)人: | 富士胶片电子材料美国有限公司 |
主分类号: | B08B3/04 | 分类号: | B08B3/04;C11D7/60 |
代理公司: | 北京博思佳知识产权代理有限公司11415 | 代理人: | 方志炜 |
地址: | 美国罗*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 去除 表面上 残余物 清洗 调配 | ||
1.一种清洗组合物,其含有:
1)至少一种氧化还原剂;
2)至少一种第一螯合剂,该第一螯合剂为聚氨基聚羧酸;
3)至少一种第二螯合剂,其不同于第一螯合剂,该第二螯合剂含有至少两个含氮基团;
4)至少一种金属腐蚀抑制剂,该金属腐蚀抑制剂为经取代或未经取代的苯并三唑;
5)至少一种有机溶剂,其选自水溶性醇、水溶性酮、水溶性酯、和水溶性醚;
6)水;和
7)任选地,至少一种pH调节剂,该pH调节剂是不含金属离子的碱;
其中,所述组合物不含具有化学式WzMXy的金属卤化物,其中W选自氢、碱金属或碱土金属、和无金属离子的氢氧化物碱部分;M是选自Si、Ge、Sn、Pt、P、B、Au、Ir、Os、Cr、Ti、Zr、Rh、Ru和Sb的金属;y为4至6;且z为1、2或3。
2.根据权利要求1所述的组合物,其特征在于,所述组合物的pH为6-约11。
3.根据权利要求1所述的组合物,其特征在于,所述氧化还原剂为羟基胺。
4.根据权利要求1所述的组合物,其特征在于,所述组合物包含约0.5wt%-约20wt%的所述氧化还原剂。
5.根据权利要求1所述的组合物,其特征在于,所述聚氨基聚羧酸选自包括以下的组:单-或聚亚烷基聚胺聚羧酸、聚氨基烷聚羧酸、聚氨基烷醇聚羧酸、及羟基烷基醚聚氨聚羧酸。
6.根据权利要求1所述的组合物,其特征在于,所述聚氨基聚羧酸选自包括以下的组:丁二胺四乙酸、二乙三胺五乙酸、乙二胺四丙酸、三乙烯四胺六乙酸、1,3-二氨基-2-羟基丙烷-N,N,N',N'-四乙酸、丙二胺四乙酸、乙二胺四乙酸、反-1,2-二氨基环己烷四乙酸、乙二胺二乙酸、乙二胺二丙酸、1,6-己二胺-N,N,N',N'-四乙酸、N,N-双(2-羟基苯甲基)乙二胺-N,N-二乙酸、二氨基丙烷四乙酸;1,4,7,10-四氮杂环十二烷-四乙酸、二氨基丙醇四乙酸、及(羟基乙基)乙二胺三乙酸。
7.根据权利要求1所述的组合物,其特征在于,所述组合物包含约0.01wt%至约1wt%的所述聚氨基聚羧酸。
8.根据权利要求1所述的组合物,其特征在于,所述第二螯合剂为含有伯氨基或仲氨基及至少一个另外的含氮碱基的单羧酸。
9.根据权利要求8所述的组合物,其特征在于,所述单羧酸为具有结构(I)的化合物:
(R3NH)C(R1)(R2)CO2H (I),
其中,R1及R2各自独立地为氢原子、C1-C4烷基、或具有至少一个含氮碱基的基团;且
R3为氢原子、C1-C10烷基、或具有至少一个含氮碱基的基团;
其中,R1、R2及R3中的至少一个为具有至少一个含氮碱基的基团。
10.根据权利要求9所述的组合物,其特征在于,R1为具有至少一个含氮碱基的基团,其中,具有至少一个含氮碱基的基团为C1-C10烷基,其被氨基、胍基或咪唑基取代,且被OH进一步任选地取代。
11.根据权利要求10所述的组合物,其特征在于,R2为H或C1-C4烷基,且R3为H、C1-C10烷基、或具有至少一个含氮碱基的基团,其中,具有至少一个含氮碱基的基团为C1-C10烷基,其被氨基、胍基、或咪唑基任选地取代,且任选被OH进一步取代。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于富士胶片电子材料美国有限公司,未经富士胶片电子材料美国有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201480066376.0/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:带有高分解度区域的涡轮机部件铸造芯
- 下一篇:与环氧烷生产相关的改进