[发明专利]记录装置及传送带的清洁方法

权利要求书

1.一种记录装置，包括：

传送带，其传送记录介质；

记录头，通过该记录头，墨被释放到所述记录介质上；以及

用于所述传送带的清洁部，

其中所述记录装置具有

第一清洁模式，在该第一清洁模式中，所述清洁部在由所述传送带传 送所述记录介质期间清洁所述传送带，以及

第二清洁模式，在该第二清洁模式中，所述清洁部在除了由所述传送 带传送所述记录介质之外的时段期间清洁所述传送带。

2.根据权利要求1所述的记录装置，

其中所述清洁部包括：接触部，在该接触部中，所述清洁部与所述传 送带接触；以及去除部，其去除被施加到所述传送带上的清洁剂，并且

其中，在所述第二清洁模式中，在所述传送带间歇地移动的状态下清 洁所述传送带，然后完成所述传送带的清洁。

3.根据权利要求2所述的记录装置，

其中多种记录模式被设置，在这些记录模式中，在所述传送带间歇地 移动的状态下所述记录头执行记录，并且

其中所述第二清洁模式中的所述传送带的间歇移动操作是所述多种记 录模式中的任一记录模式中的所述传送带的间歇移动操作。

4.根据权利要求3所述的记录装置，

其中所述第二清洁模式中的所述传送带的间歇移动操作是所述多种记 录模式中的这样一种记录模式中的所述传送带的间歇移动操作：在该记录 模式中，所述传送带的每单位时间的移动量为最大值。

5.根据权利要求2至4中任一项所述的记录装置，

其中所述传送带是绕在多个旋转体上的环形带，并且

其中，在所述第二清洁模式中，在所述传送带间歇地移动一圈或多圈 的状态下清洁所述传送带，然后完成所述传送带的清洁。

6.根据权利要求2至5中任一项所述的记录装置，进一步包括：

布辊，其支持去除被施加到所述传送带上的所述清洁剂，

其中，在所述第二清洁模式中，在这样的情况下，至少当在所述传送 带连续地移动的状态下清洁所述传送带时，所述布辊与所述传送带分离： 其中，在所述传送带间歇地移动的状态下清洁所述传送带之前，在所述传 送带连续地移动的状态下清洁所述传送带。

7.根据权利要求2至6中任一项所述的记录装置，

其中，在所述第二清洁模式中，在完成所述传送带的清洁之后，所述 传送带移动预定距离。

8.根据权利要求7所述的记录装置，

其中，在所述第二清洁模式中，在完成所述传送带的清洁之后所述去 除部与所述传送带接触的状态下，所述传送带移动等于或大于所述接触部 与所述去除部之间的距离的距离。

9.一种用于记录装置中的传送带的清洁方法，该记录装置包括：传送 带，其传送记录介质；记录头，通过该记录头，墨被释放到所述记录介质 上；以及用于所述传送带的清洁部，所述清洁方法包括：

第一清洁步骤，在由所述传送带传送所述记录介质期间使用所述清洁 部清洁所述传送带；以及

第二清洁步骤，在除了由所述传送带传送所述记录介质之外的时段期 间使用所述清洁部清洁所述传送带。