[发明专利]石墨片、其制造方法、配线用层叠板、石墨配线材料和配线板的制造方法

权利要求书

1.一种石墨片，其特征在于，其厚度为100nm以上且3.0μm以下，在25℃下的a-b面方向的导热系数为2000W/mK以上，密度为2.1g/cm³以上。

2.根据权利要求1所述的石墨片，其导热系数为2080W/mK以上。

3.根据权利要求1所述的石墨片，其面积为4mm²以上。

4.根据权利要求1所述的石墨片，其中，石墨的平均结晶粒径为2μm以上。

5.一种石墨片，其特征在于，该石墨片的厚度为100nm以上且3.0μm以下，在25℃下的a-b面方向的导热系数为2080W/mK以上，面积为4mm²以上，密度为2.1g/cm³以上，石墨的平均结晶粒径为2μm以上。

6.权利要求1所述的石墨片的制造方法，其中，以高分子膜作为原料，以在3000℃以上的温度下的保持时间为20分钟以上进行加热处理而得到所述石墨片。

7.根据权利要求6所述的石墨片的制造方法，其特征在于，在用不活泼气体加压到表压为0.10MPa以上的气氛下将所述高分子膜以3000℃以上的温度保持时间为20分钟以上进行加热处理而得到所述石墨片。

8.根据权利要求6所述的石墨片的制造方法，其中，所述高分子膜的厚度为100nm以上且4μm以下。

9.根据权利要求6所述的石墨片的制造方法，其中，所述高分子膜为以选自聚酰胺、聚酰亚胺、聚喹喔啉、聚噁二唑、聚苯并咪唑、聚苯并噁唑、聚苯并噻唑、聚喹唑啉二酮、聚苯并噁嗪酮、聚喹唑酮、苯并咪唑苯并菲咯啉梯形聚合物以及它们的衍生物中的至少一种为特征的芳香族高分子的膜。

10.根据权利要求6所述的石墨片的制造方法，其中，所述高分子膜为芳香族聚酰亚胺膜。

11.根据权利要求10所述的石墨片的制造方法，其特征在于，所述高分子膜是将选自均苯四甲酸酐及3，3’，4，4’-联苯四甲酸二酐中的至少一种用于原料而得到的芳香族聚酰亚胺膜。

12.根据权利要求10所述的石墨片的制造方法，其特征在于，所述高分子膜是将选自4，4’-二氨基二苯醚和对苯二胺中的至少一种用于原料而得到的芳香族聚酰亚胺膜。

13.权利要求1所述的石墨片的制造方法，其特征在于，在用不活泼气体加压到表压为0.10MPa以上的气氛下将高分子膜以3000℃以上的温度保持时间为20分钟以上进行加热处理，

其中，所述高分子膜的厚度为100nm以上且4μm以下，

所述高分子膜是将选自均苯四甲酸酐及3，3’，4，4’-联苯四甲酸二酐中的至少一种用于原料而得到的芳香族聚酰亚胺膜。

14.权利要求1所述的石墨片的制造方法，其特征在于，在用不活泼气体加压到表压为0.10MPa以上的气氛下将高分子膜以3000℃以上的温度保持时间为20分钟以上进行加热处理，

其中，所述高分子膜的厚度为100nm以上且4μm以下，

所述高分子膜是将选自4，4’-二氨基二苯醚和对苯二胺中的至少一种用于原料而得到的芳香族聚酰亚胺膜。

15.一种石墨片，其特征在于，其厚度为50nm以上且2.1μm以下的范围，面积为9mm²以上，在25℃下的a-b面方向的载流子迁移率为9000cm²/V·秒以上，密度为2.1g/cm³以上。