[发明专利]双面结构化膜制品

权利要求书

1.一种结构化基底，其包括：

第一主表面和第二主表面，其中所述第一主表面和所述第二主表面各自包括形成重复微结构化图案的多个间隔开的突出部，每个重复微结构化图案具有长轴，其中所述长轴包括所述重复微结构化图案的沿平移方向的长轴中的一个长轴，并且其中所述第二主表面上的所述重复微结构化图案的长轴与所述第一主表面上的长轴形成倾斜角度，其中所述角度在所述重复微结构化图案的旋转对称角的10％-90％的范围内，并且其中所述结构化基底为在单一步骤中通过挤出而制备的单一基底。

2.根据权利要求1所述的结构化基底，其中所述第一主表面和/或所述第二主表面上的所述重复微结构化图案包括任何周期性几何图案。

3.根据权利要求2所述的结构化基底，其中所述周期性几何图案包括正方形图案、六边形图案、三角形图案或圆形图案。

4.根据权利要求1所述的结构化基底，其中所述第一主表面上的所述重复微结构化图案与所述第二主表面上的所述重复微结构化图案相同。

5.根据权利要求1所述的结构化基底，其中所述第一主表面上的所述重复微结构化图案与所述第二主表面上的所述重复微结构化图案不同。

6.根据权利要求1所述的结构化基底，其中所述角度在所述重复微结构化图案的所述旋转对称角的20％-80％的范围内。

7.根据权利要求1所述的结构化基底，其中所述第一主表面上的所述重复微结构化图案和所述第二主表面上的所述重复微结构化图案形成腔阵列，并且其中所述突出部形成所述腔的壁。

8.根据权利要求7所述的结构化基底，其中所述腔阵列包括正方形腔的阵列。

9.根据权利要求7所述的结构化基底，其中所述腔阵列包括六边形腔的阵列。

10.根据权利要求7所述的结构化基底，其中所述腔阵列包括三角形腔的阵列。

11.根据权利要求7所述的结构化基底，其中所述腔阵列包括圆形腔的阵列。

12.根据权利要求7所述的结构化基底，其中在沿长轴的剖视图中，第一表面区域被限定为所述第一主表面的包括突出部和所述突出部形成其一个壁的所述腔的区域，第二表面区域被限定为所述第二主表面的包括突出部和所述突出部形成其一个壁的所述腔的区域，并且第三表面区域被限定为所述第一表面区域和所述第二表面区域之间的平台区域，并且其中所述第一表面区域和所述第二表面区域之和与所述第三表面区域的比率为1:1或更大。

13.根据权利要求1所述的结构化基底，其由挤出复制法制得。

14.根据权利要求1所述的结构化基底，其中所述结构化基底包括一致的材料组合物。