[发明专利]用于确定子弹弹丸在目标平面上的位置的系统和方法有效

专利信息
申请号: 201480052543.6 申请日: 2014-09-05
公开(公告)号: CN105593633B 公开(公告)日: 2018-03-06
发明(设计)人: 列夫·埃里克·巴肯;帕尔·巴肯 申请(专利权)人: 梅加林克公司
主分类号: G01P3/68 分类号: G01P3/68;F41J5/02
代理公司: 北京安信方达知识产权代理有限公司11262 代理人: 陆建萍,郑霞
地址: 挪威德*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 用于 确定 子弹 弹丸 目标 平面 位置 系统 方法
【权利要求书】:

1.一种用于确定子弹(K)在射击盘或目标平面(BP)上的弹着点(PS)的系统,包括:

设定或预定的图案的光平面,其包括在三维(3D)中的至少五个光幕或光平面,所述至少五个光幕或光平面在二维(2D)中形成至少三个光幕或光平面,以及,

至少一个处理器,

其中二维的光幕或光平面被以这样的方式布置或定位:在所述子弹(K)在所述射击盘或目标平面(BP)上的弹着点(PS)的两个未知坐标之一中,至少两个光平面与所述射击盘或目标平面(BP)形成至少一个给定的第一角度(a),并且定位成相互之间成预定的第一距离(E),其中所述至少一个处理器被配置成用于提供对在所述子弹首次击中和/或退出每个光平面时的所述子弹(K)的弹丸或弹道的一侧的至少两个触发点以及通行经过所述至少两个光平面的至少两个时间测量结果的检测,并且其中所述至少一个处理器还被配置成用于使用在所述子弹(K)通行经过相互平行的、且相互以所述预定的第一距离(E)布置的所述至少两个光平面的所述两个时间测量结果之间的差来计算所述子弹(K)的速度(v),以及

其中在所述子弹(K)在所述射击盘或目标平面(BP)上的弹着点(PS)的两个未知的坐标之一处的至少一个光平面被定位成不平行于所述至少两个光平面,所述至少一个处理器被配置成用于提供对在所述子弹首次击中和/或离开每个光平面时的所述子弹(K)的所述弹丸或弹道的另一侧的至少一个触发点以及至少一个通行经过所述至少一个光平面的至少一个时间测量结果的检测,以及

其中所述至少一个处理器被配置成借助所述子弹(K)通行经过所述至少三个光平面的至少三个时间测量结果、所述子弹(K)的经计算的速度(v)以及所述光平面和所述目标平面(BP)的位置的已知的参数来计算在每个2D平面中的以下项中的至少一项:在每个2D平面中的所述子弹(K)在所述射击盘或目标平面(BP)上的左弹着点(PVS)、所述子弹(K)在所述射击盘或目标平面(BP)上的右弹着点(PHS)、横穿光平面的所述子弹的弹道的中心点以及所述子弹(K)在所述射击盘或目标平面(BP)上的所述弹着点(PS),然后使用已知和/或经计算的参数中的至少一个来计算在3D中所述子弹(K)在所述射击盘或目标平面(BP)上的所述弹着点(PS)。

2.根据权利要求1所述的系统,其中所述光平面和所述目标平面(BP)的位置的已知的参数包括距离和角度。

3.根据权利要求1所述的系统,其中所述至少一个光平面被定位成平行并接近于所述目标平面(BP)且在所述至少一个光平面与所述目标平面(BP)之间具有设定或预定的第二距离(F),所述处理器被配置成用于利用S/2的尺寸来校正在每个2D平面中所述子弹(K)在所述射击盘或目标平面(BP)上的左弹着点(PVS)或所述子弹(K)在所述射击盘或目标平面(BP)上的右弹着点(PHS)的坐标,然后计算所述子弹在所述目标平面(BP)上的弹着点(PS),S是所述子弹(K)的预定的阴影直径,即所述子弹(K)在2D平面中的阴影宽度。

4.根据权利要求1所述的系统,其中至少两个第一光平面被定位成相互平行并且与所述射击盘或目标平面(BP)形成至少一个预定的第一角度a,并且至少两个第二光平面被定位成相互平行并且与所述射击盘或目标平面(BP)形成至少一个预定的第二角度b,其中b=-a,并且其中所述至少一个处理器被配置成用于通过计算针对所述子弹(K)的中心通行经过所述光平面的在每个2D平面中的至少两个点来计算所述子弹在所述目标平面(BP)上的弹着点(PS)以及计算所述子弹(K)的弹道相对于所述目标平面的角度。

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