[发明专利]复合陶瓷研磨抛光液

说明书

本发明提供了一种抛光液，所述抛光液包含流体组分和多种陶瓷磨料复合物。所述陶瓷磨料复合物包含均匀地分散在整个多孔陶瓷基体上的单独的磨料颗粒。所述多孔陶瓷基体的至少一部分包含玻璃陶瓷材料。所述陶瓷磨料复合物分散在所述流体组分中。

技术领域

本公开涉及可用于基板的抛光的抛光液和使用此类抛光液的方法。

背景技术

已提出了用于超硬基板的抛光的各种制品、系统和方法。此类制品、系统和方法例如在以下会议中有所描述：2010年5月17日至20日在俄勒冈州波特兰市(Portland Oregon)举行的CS Mantech会议(E.Kasman,M.Irvin)；和4月23日至26日在马萨诸塞州波士顿市(Boston,MA)举行的CS Mantech会议(K.Y.Ng,T.Dumm)。

发明内容

在一些实施例中，提供了一种抛光液。该抛光液包含流体组分和多种陶瓷磨料复合物。陶瓷磨料复合物包含均匀地分散在整个多孔陶瓷基体上的单独的磨料颗粒。多孔陶瓷基体的至少一部分包含玻璃陶瓷材料。陶瓷磨料复合物分散于流体组分中。

在一些实施例中，提供了另一种抛光液。抛光液包含流体组分和多种陶瓷磨料复合物。陶瓷磨料复合物包含分散在多孔陶瓷基体中的单独的磨料颗粒。陶瓷磨料复合物中的多孔陶瓷基体的量介于所述多孔陶瓷基体和所述单独的磨料颗粒的总重量的约5重量百分比和95重量百分比之间。多孔陶瓷基体的至少一部分包含玻璃陶瓷材料。陶瓷磨料复合物分散在流体组分中。

本公开的以上概述不旨在描述本公开的每个实施例。本公开的一个或多个实施例的细节也阐述于以下说明中。依据所述说明和权利要求书，本公开的其它特征结构、目标和优点将显而易见。

附图说明

结合附图阅读以下对本公开的各实施例的详细说明，可更全面地理解本公开，其中：

图1示出根据本公开的一些实施例的用于利用制品和方法的抛光系统的示例的示意图。

图2A和图2B分别示出根据本公开的一些实施例的抛光垫的顶部透视图和示意性剖视图。

图3示出根据本公开的一些实施例的抛光垫的示意性剖视图，所述抛光垫具有多个腔，所述腔具有至少部分地设置于其中的一个或多个磨料复合物颗粒。

图4示出根据本公开的一些实施例的抛光垫的示意性俯视图，所述抛光垫包括一系列具有三面棱锥形状的腔。

具体实施方式

定义

如本文所用，单数形式“一个”、“一种”、和“所述”包括复数指代，除非所述内容清楚地表示其它含义。在本说明书和所附实施例中所用的术语“或”通常以其包括“和/或”的含义使用，除非所述内容清楚地表示其它含义。

如本文所用，通过端点表述的数值范围包括此范围内所含的所有数值(例如1至5包括1、1.5、2、2.75、3、3.8、4和5)。

除非另外指明，否则说明书和实施例中所用的表达数量或成分、性质量度等的所有数值在所有情况下均应理解成被术语“约”修饰。因此，除非有相反的说明，否则前述说明书和所附实施例列表中阐述的数值参数可根据本领域技术人员使用本公开的教导内容寻求获得的所需性质而变化。在最低程度上且不试图将等同原则的应用限制到受权利要求书保护的实施例的范围的前提下，至少应当根据所报告的数值的有效数位并通过应用普通四舍五入技术来解释每个数值参数。

当前，超硬基板(例如，蓝宝石基板)精修工艺为固定研磨工艺或涉及使用磨料填充金属板，然后用胶态二氧化硅浆液来进行化学机械抛光的研磨工艺。打磨和抛光超硬基板的挑战尚未使用这类工艺的已知版本得到满足。例如，不足的材料移除速率、不佳的表面光洁度、次表面损坏、高成本和整个工艺难度均与此类已知工艺相关联。