[发明专利]针对小间距闪烁晶体阵列的像素识别有效

专利信息
申请号: 201480044607.8 申请日: 2014-08-13
公开(公告)号: CN105452902B 公开(公告)日: 2019-02-05
发明(设计)人: C·W·莱尔凯;P·桑帕斯;T·佐尔夫 申请(专利权)人: 皇家飞利浦有限公司
主分类号: G01T1/164 分类号: G01T1/164
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 李光颖;王英
地址: 荷兰艾*** 国省代码: 荷兰;NL
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摘要:
搜索关键词: 针对 间距 闪烁 晶体 阵列 像素 识别
【权利要求书】:

1.一种用于伽马射线探测器(3、51)的校准方法(100),所述伽马射线探测器包括闪烁体阵列(5)和以光共享模式被耦合到所述闪烁体阵列的光探测器阵列(7),所述闪烁体阵列用于响应于入射伽马射线在光转换位置处发射闪烁光子,所述光探测器阵列用于确定闪烁光子的空间强度分布,所述方法包括以下步骤:

记录(S10)由所述闪烁体阵列(5)响应于多条入射伽马射线发射的闪烁光子的空间强度分布;

根据所记录的空间强度分布来确定(S22)符合地发射的闪烁光子的集合;

针对所述符合地发射的闪烁光子的集合,确定重心位置(S24)和累积能量(S26);

执行(S28)基于所确定的重心位置和累积能量的聚类分析,以获得归于闪烁体阵列元件(15)的伽马射线事件的聚类(26a、26b、33);

针对聚类(26a、26b、33),累积(S29)所述空间强度分布,以确定响应于在所述闪烁体阵列元件(15)中的入射伽马射线而发射的闪烁光子的累积空间强度分布;并且

基于所述累积空间强度分布来确定(S30)光矩阵,所述光矩阵包括针对不同闪烁体阵列元件(15)的闪烁光子的预期的空间强度分布。

2.根据权利要求1所述的校准方法(100),其中,执行(S28)所述聚类分析包括使用标准聚类算法,所述标准聚类算法基于:分级聚类、基于质心的聚类、基于分布的聚类、基于密度的聚类或者最大似然期望最大化聚类。

3.根据权利要求1所述的校准方法(100),其中,基于对所确定的累积空间强度分布的标准化来确定所述预期的空间强度分布。

4.根据权利要求1所述的校准方法(100),其中,

所确定的符合地发射的闪烁光子的集合被分组,所述组包括其重心在相同的光探测器阵列元件(11)上的符合地发射的闪烁光子的所有集合;并且

针对每个组执行分离的聚类分析。

5.根据权利要求1所述的校准方法(100),其中,所述多条入射伽马射线是由远点源发射的。

6.一种用于伽马射线探测器(3、51)的校准模块(41),所述伽马射线探测器包括闪烁体阵列(5)和以光共享模式被耦合到所述闪烁体阵列的光探测器阵列(7),所述闪烁体阵列用于响应于入射伽马射线在光转换位置处发射闪烁光子,所述光探测器阵列用于确定闪烁光子的空间强度分布,所述模块包括:

记录器(43),其用于记录由所述闪烁体阵列(5)响应于多条入射伽马射线发射的闪烁光子的空间强度分布;

累积模块(45),其用于:根据所记录的空间强度分布来确定符合地发射的闪烁光子的集合;针对所述符合地发射的闪烁光子的集合,确定重心位置和累积能量;执行基于所确定的重心位置和累积能量的聚类分析,以获得归于闪烁体阵列元件(15)的伽马射线事件的聚类(26a、26b、33);针对聚类(26a、26b、33),累积所述空间强度分布,以确定响应于在所述闪烁体阵列元件(15)中的入射伽马射线而发射的闪烁光子的累积空间强度分布;以及

矩阵模块(47),其用于基于所述累积空间强度分布确定光矩阵,所述光矩阵包括针对不同闪烁体阵列元件(15)的闪烁光子的预期的空间强度分布。

7.一种伽马射线探测器(3,51),包括:

闪烁体阵列(5),其用于响应于入射伽马射线在光转换位置处发射闪烁光子;

光探测器阵列(7),其以光共享模式被耦合到所述闪烁体阵列(5),所述光探测器阵列用于确定闪烁光子的空间强度分布;以及

根据权利要求6所述的校准模块(41)。

8.根据权利要求7所述的伽马射线探测器(3、51),还包括介于所述闪烁体阵列(5)与所述光探测器阵列(7)之间的光导(9),所述光导用于将来自所述闪烁体阵列(5)的所发射的闪烁光子引导到所述光探测器阵列(7)。

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