[发明专利]采用低熔融玻璃或薄吸收膜对透明玻璃片进行激光焊接有效
申请号: | 201480039579.0 | 申请日: | 2014-05-07 |
公开(公告)号: | CN105377783B | 公开(公告)日: | 2019-03-08 |
发明(设计)人: | L·C·达比奇二世;S·L·洛古诺夫;M·A·凯斯达;A·M·斯特列利佐夫 | 申请(专利权)人: | 康宁股份有限公司 |
主分类号: | C03C23/00 | 分类号: | C03C23/00;C03C27/06;C03C27/08;C03B23/20;C03C3/12 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 徐鑫;项丹 |
地址: | 美国*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 采用 熔融 玻璃 吸收 透明 玻璃片 进行 激光 焊接 | ||
1.一种对工件进行粘结的方法,所述方法包括:
在第一基材的表面上形成非玻璃料无机膜;
将待保护的工件放置在所述第一基材和第二基材之间,所述膜与所述第二基材接触;以及
通过用具有预定波长的激光辐射对所述膜进行局部加热,将所述工件粘结在所述第一和第二基材之间,
所述无机膜、第一基材或第二基材在420-750nm是可透射的。
2.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述无机膜、第一基材和第二基材在420-750nm分别是可透射的。
3.如权利要求1所述的方法,其特征在于,在预定激光波长处,所述无机膜的激光辐射的吸收大于10%。
4.如权利要求1的方法,其特征在于,所述无机膜的组成选自下组:SnO2、ZnO、TiO2、ITO、Zn、Ti、Ce、Pb、Fe、Va、Cr、Mn、Mg、Ge、SnF2、ZnF2及其组合。
5.如权利要求1所述的方法,其特征在于,对所述无机膜的组成进行选择,从而降低诱发所述第一基材和/或第二基材的蠕动流的活化能。
6.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述无机膜的组成是液相线温度小于或等于1000℃的激光吸收低液相线温度材料。
7.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述无机膜的组成包括:
20-100摩尔%的SnO;
0-50摩尔%的SnF2;以及
0-30摩尔%的P2O5或B2O3。
8.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述无机膜以及所述第一和第二基材在420-750nm具有超过80%的总体内部透射率。
9.如权利要求1所述的方法,其特征在于,粘结步骤还包括通过所述第一或第二基材中的杂质的组成的作用以及通过所述无机膜的组成的作用,将所述工件粘结在所述第一和第二基材之间,所述无机膜的组成的作用是通过用具有预定波长的激光辐射对所述无机膜进行局部加热形成的。
10.如权利要求9所述的方法,其特征在于,所述第一或第二基材中的杂质选自下组:As、Fe、Ga、K、Mn、Na、P、Sb、Ti、Zn、Sn,及其组合。
11.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述第一和第二基材具有不同横向尺寸、不同CTE、不同厚度,或其组合。
12.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述第一和第二基材中的一种是玻璃或玻璃陶瓷。
13.如权利要求12所述的方法,其特征在于,所述第一和第二基材中的另一种是玻璃陶瓷、陶瓷或金属。
14.如权利要求1所述的方法,所述方法还包括对粘结的工件进行退火的步骤。
15.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述激光辐射包括193-420nm预定波长的UV辐射。
16.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述激光辐射包括780-5000nm预定波长的NIR辐射。
17.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述激光辐射的脉冲宽度为1-40纳秒,以及所述激光辐射的重复频率至少为1kHz。
18.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述激光辐射是连续波。
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