[发明专利]发光设备在审

专利信息
申请号: 201480037883.1 申请日: 2014-07-01
公开(公告)号: CN105492821A 公开(公告)日: 2016-04-13
发明(设计)人: J.M.蒂斯森;S.M.博伊 申请(专利权)人: 皇家飞利浦有限公司
主分类号: F21K9/62 分类号: F21K9/62;F21V7/00;F21V7/22;F21Y115/10
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 李静岚;景军平
地址: 荷兰艾*** 国省代码: 荷兰;NL
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摘要:
搜索关键词: 发光 设备
【权利要求书】:

1.一种发光设备(1),其包括:

-光学反射层(11),其具有光学反射侧(14);

-光透射层(12),其被布置成基本平行于光学反射层(11)的光学反射侧(14),并且与光学反射层(11)的光学反射侧(14)间隔开;

-光源(10a,10b),其被布置在光学反射层(11)和光透射层(12)之间的空间中;以及

-反射器(13a,13b),其被布置在光学反射层(11)的光学反射侧(14)和光源(10a,10b)之间,并且以如下这样的方式被配置:由光源(10a,10b)发射的光被向着光学反射层(11)的光学反射侧(14)反射,

其中反射器(13a,13b)以如下的方式进一步被配置:由光源(10a,10b)发射的光的一份额由反射器(13a,13b)直接向着光透射层(12)反射。

2.按照权利要求1所述的发光设备(1),其中反射器(13a,13b)包括第一表面部分和第二表面部分,第二表面部分比第一表面部分更接近光源(10a,10b),其中由第一表面部分向着光透射层(12)反射的光的份额大于由第二表面部分向着光透射层(12)反射的光的份额。

3.按照权利要求1或者2所述的发光设备(1),其中所述反射器(13a,13b)包括光学镜面表面部分(20a,20b)和光学漫射表面部分(18),其中光学漫射表面的表面份额随着在垂直于所述光透射层(12)的平面中离光源(10a,10b)的增大的距离而增大。

4.按照权利要求1或者2所述的发光设备(1),其中所述反射器(13a,13b)包括被配置成将光直接向着光透射层(12)反射的光重定向表面部分(18)以及光学镜面表面部分(20a,20b),其中光重定向表面部分(18)的表面份额随着在垂直于光透射层(12)的平面中离光源(10a,10b)的增大的距离而增大。

5.按照权利要求3所述的发光设备(1),其中所述反射器(13a,13b)包括光学漫射材料(18),光学漫射材料(18)以如下这样的型式被提供在光学镜面反射器(20a,20b)基部上:具有随着在垂直于光透射层(12)的平面中离光源(10a,10b)的增大的距离而增大的光学漫射材料(18)的表面份额。

6.按照权利要求3所述的发光设备(1),其中所述反射器(13a,13b)包括以如下这样的型式被提供在光学漫射反射器基部上的光学镜面材料:具有随着在垂直于光透射层(12)的平面中离光源(10a,10b)的增大的距离而减小的光学镜面材料的表面份额。

7.按照权利要求3所述的发光设备(1),其中所述反射器(44)包括光学镜面表面(42),光学镜面表面(42)包括处于具有随着在垂直于光透射层(12)的平面中离光源(10a,10b)的增大的距离而增大的表面份额的型式的孔(43),并且其中光学漫射材料(45)被布置在光学镜面表面(42)后面。

8.按照权利要求3所述的发光设备(1),其中所述反射器包括光学漫射表面,光学漫射表面包括处于具有随着在垂直于光透射层的平面中离光源的增大的距离而减小的表面密度的型式的孔,并且其中光学镜面材料被布置在光学漫射表面后面。

9.按照权利要求2所述的发光设备(1),其中反射器(13a,13b)是光学镜面反射器。

10.按照权利要求1或者2所述的发光设备(1),其中光学反射层(41)基本上遵循反射器(44)的形状。

11.按照权利要求1或者2所述的发光设备(1),其中反射器(13a,13b)包括抛物线状截面,并且其中光源(10a,10b)被布置成与反射器(13a,13b)的焦点偏移。

12.按照权利要求1或者2所述的发光设备(1),其中光源(10a,10b)包括多个发光二极管(21,22)。

13.按照权利要求1或者2所述的发光设备(1),其中光学反射层(11)是吸音层,并且其中光透射层(12)是空气可穿透的,以允许声压波到达吸音层。

14.按照权利要求1或者2所述的发光设备(1),其中所述反射器(13a,13b)是在平行于所述光透射层(12)的平面中的细长的反射器。

15.按照权利要求1所述的发光设备(1),其中所述光透射层(12)是光学漫射层。

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