[发明专利]二环式含氮芳香族杂环酰胺化合物有效

专利信息
申请号: 201480033143.0 申请日: 2014-06-09
公开(公告)号: CN105308024B 公开(公告)日: 2017-10-27
发明(设计)人: 大贯圭;蓟英范;泽田由纪;进崇史;仓本和幸;菊池重俊;斋藤智之;滨口寿雄;长岛建之 申请(专利权)人: 安斯泰来制药株式会社
主分类号: C07D215/48 分类号: C07D215/48;C07D235/30;C07D401/04;C07D401/12;C07D401/14;C07D405/14;C07D413/14;C07D471/04;C07D471/14;A61K31/496;A61K31/497;A61P15/14;A61P
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司11219 代理人: 胡嵩麟,王海川
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 二环式含氮 芳香族 杂环酰胺 化合物
【权利要求书】:

1.式(I)的化合物或其盐,

式中,

R1为芳基或单环式含氮杂芳基,所述芳基或单环式含氮杂芳基各自可以被选自由卤素、低级烷基、-O-低级烷基、卤代低级烷基、-O-卤代低级烷基、-CN、二甲基氨基和环烷基构成的组中的基团取代;

X为CH、N或C;

i)在X为CH或N的情况下,为单键,ii)在X为C的情况下,为双键;

Y为下述的环基,

其中,

Y1为CRh或N,

Y2为CRi或N,

但是,Y1和Y2不同时为N,

Ra、Rh和Ri相同或不同,为H或卤素,

Rb为H或低级烷基,

Rc为低级烷基,

Y3为CH或N,

Rd和Re相同或不同,为H或低级烷基,

Rf为H或低级烷基,

Y4为O或S,

Y5为CH或N,

Y6为CH或N,

Rg为H或低级烷基;

R2为H或低级烷基;并且,

R3和R4相同或不同,为H、卤素、低级烷基、-O-低级烷基、卤代低级烷基、-O-卤代低级烷基、环烷基或-CN,或者R3和R4可以与R3和R4所键合的苯环成为一体而形成2,2-二氟-1,3-苯并二氧杂环戊烯,

所述低级烷基为直链或支链的碳原子数为1~6的烷基。

2.如权利要求1所述的化合物或其盐,其中,R2为H。

3.如权利要求2所述的化合物或其盐,其中,X为CH。

4.如权利要求3所述的化合物或其盐,其中,Y为

5.如权利要求4所述的化合物或其盐,其中,Rb为H或甲基,Rc为甲基,Rd为甲基,且Rf为甲基。

6.如权利要求5所述的化合物或其盐,其中,R3为H或卤素且R4为卤代低级烷基、-O-低级烷基或-CN,或者R3和R4与R3和R4所键合的苯环成为一体而形成2,2-二氟-1,3-苯并二氧杂环戊烯,所述低级烷基为直链或支链的碳原子数为1~6的烷基。

7.如权利要求6所述的化合物或其盐,其中,R1为苯基、吡啶基、吡嗪基、嘧啶基或吡唑基,所述苯基、吡啶基、吡嗪基、嘧啶基或吡唑基各自可以被选自由低级烷基和-O-低级烷基构成的组中的基团取代,所述低级烷基为直链或支链的碳原子数为1~6的烷基。

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