[发明专利]用于低辐射涂层的钛镍铌合金阻挡层在审

专利信息
申请号: 201480028165.8 申请日: 2014-03-12
公开(公告)号: CN105431392A 公开(公告)日: 2016-03-23
发明(设计)人: G·丁;B·博伊斯;J·成;M·伊姆兰;J·劳;M·H·乐;D·施瓦格特;Z-W·孙;Y·王;Y·许;G·张 申请(专利权)人: 分子间公司;葛迪恩实业公司
主分类号: C03C17/36 分类号: C03C17/36;B32B9/00
代理公司: 北京鸿元知识产权代理有限公司 11327 代理人: 陈英俊
地址: 美国加利*** 国省代码: 美国;US
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摘要:
搜索关键词: 用于 辐射 涂层 钛镍铌 合金 阻挡
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种薄膜,提供高透射率,和低辐射率,特别是,该薄膜被形成在透明基板上。

发明背景

阳光控制玻璃通常在类似建筑玻璃窗和车辆窗口的应用中被使用,通常提供高可见光透射率和低辐射率。高可见光透射率可使更多的阳光穿过玻璃窗,从而在许多窗应用中是可取的。低辐射率可以阻挡红外(IR)辐射,以减少不理想的内部升温。

在低辐射率的玻璃,红外辐射主要反映在最少吸收和辐射,从而减少传输至低辐射表面以及从低辐射表面传输的热。低辐射率,或low-e面板通常是在类似玻璃的基板上沉积反射层(例如,银)被形成。为了实现所需的性能反射层的整体质量,对于纹理和晶体取向是非常重要的,例如高可见光透射率和低辐射率(即,高热反射)。为了提供粘附性,以及保护性,通常在反射层下面和上面形成其他一些层。该多种层通常包括介电层,如氮化硅、氧化锡、氧化锌等,在堆栈和基板之间以及堆栈和环境之间都配置阻挡层,作为光学填充物和抗反射涂层的功能,来提高面板的光学特性。

已知的实现低辐射率的方法是形成相对厚的银层。然而,随着银层的厚度增加,反射层的可见光透射率减少,同时由于整体制造成本增加,制造吞吐量减少。因此,需要一种方法尽可能较薄地来形成银层,同时仍可提供适合低辐射应用的辐射率。

发明内容

在一些实施例中,提供一种阻挡层结构以及制备该阻挡层结构的方法,用来将红外反射层配置在低辐射涂层中。阻挡层结构可包括钛、镍、铌的三元合金。其中,所述钛的重量百分比可为5-15wt%。所述镍的重量百分比可为30-50wt%。所述铌的重量百分比可为40-60wt%。

在一些实施例中,红外反射层被形成在底层上,类似抗反射层或种子层。底层可包括金属氧化物材料,类似氧化锌、掺杂质的氧化锌、氧化锡、掺杂质的氧化锡,或是锌和锡的氧化物合金。

在一些实施例中,阻挡层结构可被优化来用于光学特性和机械特性,包括较低的可见光吸收率,较高的可见光透射率,较高的红外反射率,以及较高的机械耐用性和粘附性能。例如,镍和铌的高含量可提高涂层的耐用性,例如通过加固与银层的界面。与二元镍合金以及其他成分范围的三元镍合金相比,所述三元合金具有更好的整体性能。

附图简要说明

为了便于理解,在可能的情况下,在附图中使用了相同的参照符号来表示相同的部件。附图没有被尺寸化,且附图中各种部件的相对尺寸仅为示意图,且不一定成比例。

以下参照附图进行更详细地说明,本发明的技术将变得更容易理解,其中:

图1A示出根据本发明的一些实施例的示例性薄膜涂层。

图1B示出根据本发明的一些实施例的低辐射透明面板105。

图2A-2B示出根据本发明的一些实施例的物理气相沉积(PVD)系统。

图3示出根据本发明的一些实施例的示例性内联沉积系统。

图4示出根据本发明的一些实施例的溅射涂层的流程图。

图5示出根据本发明的一些实施例的溅射涂层的流程图。

发明的具体说明

以下参照附图对一个或多个实施例进行详细说明。虽然所提供的详细描述与该实施例相关,但并不局限于任何特定的示例。该范围仅由权利要求被限定,并包括多种选择、修改和等价物。下述说明中提出的许多具体细节被用来提供完整的了解。该具体说明出于实施例的目的被提供,且描述的技术可按照权利要求被实施而无须一些或所有这些具体细节。为了明确起见,与实施例相关的本技术领域中已知的技术材料没有被详细说明,来避免使说明模糊不清。

在一些实施例中,公开了一种制备涂层面板的方法和装置。涂层面板可包括形成在其上的涂层,例如低电阻的薄红外反射层,具有类似银的导电材料。红外反射层可包括导电材料,反射率与电导率成正比。因此,金属层,例如银,可用作低辐射涂层中的红外反射层。为了保持红外反射层的电导率,例如银层,可在银层上形成阻挡层,防止后续层沉积或后续高温退火中的氧化。

在一些实施例中,公开了一种用于制备低辐射涂层面板的方法和装置,其中包括在类似银的导电层上沉积阻挡层,在该条件下,银的电阻率以及涂层面板的辐射率为最佳。例如,可通过使用含有钛、铌和镍合金的阻挡层来进行保护,从而实现低电阻的银层或低辐射面板。

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