[发明专利]包括多层涂层的光学元件及包括光学元件的光学装置

权利要求书

1.一种光学元件(50)，包含：

基板(52)；以及

施加于所述基板(52)的多层涂层(51)，所述多层涂层包含：

至少一个第一层系统(53)，由相同构造的堆叠(X1至X4)的布置组成，各堆叠具有至少两个层(53a-d)；以及

至少一个第二层系统(54)，由相同构造的堆叠(Y1，Y2)的布置组成，各堆叠具有至少两个层(54a，54b)，其中，在所述多层涂层(51)热负载时，所述第一层系统(53)经历各堆叠(X1至X4)的厚度(dX)的不可逆收缩，所述第二层系统(54)经历各堆叠(Y1，Y2)的厚度(dY)的不可逆膨胀。

2.如权利要求1所述的光学元件，其中，所述至少一个第二层系统(54)的堆叠(Y1，Y2)的膨胀补偿所述多层涂层(51)的至少一个第一层系统(53)的堆叠(X1至X4)的收缩。

3.如权利要求1或2所述的光学元件，其中，所述第二层系统(54)的堆叠(Y1，Y2)中的至少一个层(54b)含有硼。

4.如权利要求3所述的光学元件，其中，所述层(54b)由B₄C形成。

5.如权利要求4所述的光学元件，其中，由B₄C构成的层(54b)具有2nm或更大的厚度(d)。

6.如前述权利要求任一项所述的光学元件，其中，所述第二层系统(54)的堆叠(Y1，Y2)中的至少一个层(54a)含有金属或由金属组成。

7.如权利要求5所述的光学元件，其中，金属从包含Mo和La的组中选择。

8.如前述权利要求任一项所述的光学元件，其中，所述第二层系统(54)的堆叠(Y1，Y2)的各层(54a，54c)含有硼和金属两者，其中，存在相对于所述金属过多的硼。

9.如前述权利要求任一项所述的光学元件，其中，所述第一层系统(53)的堆叠(X1至X4)中的至少一个层(53a，53c)由Mo或Si形成。

10.如前述权利要求任一项所述的光学元件，其中，所述第一层系统(53)的堆叠(X1至X4)中的至少一个层(53b，53d)由B₄C形成。

11.如前述权利要求任一项所述的光学元件，其中，所述第一层系统(53)的堆叠(X1至X4)的数目与所述第二层系统(54)的堆叠(Y1，Y2)的数目的比率为4∶2。

12.如前述权利要求任一项所述的光学元件，其中，所述多层涂层(51)设计用于反射EUV辐射(6)。

13.一种光学装置，尤其是光刻设备(1)，包含：至少一个如前述权利要求任一项所述的光学元件(7，9，10，11，13，14，50)。

14.如权利要求13所述的光学装置，其中，在所述光学元件(7，9，10，11，13，14，50)由EUV辐射(6)照射引起热负载时，在所述光学元件(7，9，10，11，13，14，50)处反射的所述EUV辐射(6)的质心波长(λ_Z)是恒定的。