[发明专利]处理水的方法和系统

权利要求书

1.一种用于处理在处理系统处接收到的水的方法，所述方法包括：

由电解潜在水垢减少器通过对所述水进行电解，来减少所述水的潜在水垢；以及

由UV消毒剂减少器通过利用紫外线照射所述水，来从所述水中实质上地去除消毒剂。

2.根据权利要求1所述的用于处理水的方法，还包括：

通过使得热水流过所述电解潜在水垢减少器，来对所述电解潜在水垢减少器进行净化。

3.根据权利要求1或2所述的用于处理水的方法，还包括：

通过使得热水流过所述UV消毒剂减少装置，来对所述UV消毒剂减少装置进行净化。

4.根据上述任一权利要求所述的用于处理水的方法，还包括：

通过使得热水流过所述处理系统的管线和存储水箱，来对所述管线和存储水箱进行净化。

5.根据上述任一权利要求所述的用于处理水的方法，其中所述接收到的水首先流过所述电解潜在水垢减少器以减少所述潜在水垢，并且随后流过所述紫外消毒剂减少器以进行消毒剂去除。

6.根据权利要求1到4中的任何一项所述的用于处理水的方法，其中所述接收到的水流过所述紫外消毒剂减少器以进行消毒剂去除，并且随后流过所述电解潜在水垢减少器以减少所述潜在水垢。

7.根据上述任一权利要求所述的用于处理水的方法，其中所述电解潜在水垢减少器将所述接收到的水的潜在水垢减少到生成潜在水垢减少的水的程度，以便至少直到所述水离开所述处理系统之前，保持实质上不符合形成水垢所需的条件。

8.根据上述任一权利要求所述的用于处理水的方法，其中在执行所述方法之前所述水中的多价阳离子金属的作为CaCO₃等价物的浓度为大约等于或大于大约100ppm。

9.根据权利要求8所述的用于处理水的方法，其中在执行所述方法之前所述水中的多价阳离子金属的作为CaCO₃等价物的浓度为大约等于或大于的大约400ppm。

10.根据上述任一权利要求所述的用于处理水的方法，其中通过所述方法将所述水中的多价阳离子金属的浓度减少1％至大约10％。

11.根据上述任一权利要求所述的用于处理水的方法，其中减少所述水的潜在水垢，以便针对给定的多价阳离子的浓度、水压和水温，电解潜在水垢减少器下游的析出时间被至少乘以1.5的因数。

12.根据上述任一权利要求所述的用于处理水的方法，其中所述水中的多价阳离子的作为CaCO₃等价物的浓度为大约100ppm或更高，所述水压等于大约2巴或更大；并且所述水温等于大约4℃或更高。

13.根据上述任一权利要求所述的用于处理水的方法，其中所述电解潜在水垢减少器减少潜在水垢而不使用化学反应剂和有机介质。

14.根据上述任一权利要求所述的用于处理水的方法，还包括对所述水进行反渗透和/或去离子。

15.根据上述任一权利要求所述的用于处理水的方法，还包括蒸发所述水以获得从包括下述各项的组中选择的高质量的水产品：注射用水、以及纯净蒸汽。

16.一种水处理系统，包括：

电解潜在水垢减少器；以及

紫外消毒剂减少器，与所述电解潜在水垢减少器流体连通。

17.根据权利要求16所述的水处理系统，其中所述电解潜在水垢减少器可操作以用于减少由自来水源提供的水中的潜在水垢来获得潜在水垢减少的水，并且用于向所述紫外消毒剂减少器提供所述潜在水垢减少的水以从所述潜在水垢减少的水中实质上地去除消毒剂。

18.根据权利要求16或17所述的水处理系统，还包括反渗透装置，所述反渗透装置与所述电解潜在水垢减少器和所述紫外消毒剂减少器流体连通。

19.根据权利要求16-18中任一项所述的水处理系统，还包括去离子装置，所述去离子装置与所述电解潜在水垢减少器和所述紫外消毒剂减少器流体连通。

20.根据权利要求16-19中任一项所述的水处理系统，其中所述电解潜在水垢减少器被配置为在电压为6-24伏特、电流为大约6-14安培的条件下执行电解。